产品详情
所在位置: 首页> 产品目录> 镀膜仪>
  • 产品名称:定制5靶等离子磁控溅射镀膜仪

  • 产品型号:CY-5RF
  • 产品厂商:成越科仪
  • 产品文档:
你添加了1件商品 查看购物车
简单介绍:
定制5靶等离子磁控溅射镀膜仪是5枪等离子体磁控溅射系统,专为高通量材料基因组计划(MGI)薄膜研究而设计,能够通过组合溅射对金属和非金属材料进行新一代材料的探索。 定制5靶等离子磁控溅射镀膜仪能够进行多达16个样品的五元素组合涂层,具有不同的成分,特别适用于寻找高性能固态电解质材料,磁性合金和多铁性材料。
详情介绍:

定制5靶等离子磁控溅射镀膜仪产品特点:

1.5个磁控溅射枪,用于5种不同的靶材料。

2.根据所使用的电源(RF或DC),可以沉积金属和非金属材料。 

3.能够溅射5种靶材料,通过不同的溅射时间/速率生产各种组合物。

4.使用可选的5个电源,可以同时溅射5种靶材料进行组合溅射。

5.可以用遮板和旋转样品架一次沉积16个样品。

定制5靶等离子磁控溅射镀膜仪产品参数:

输入功率

单相220 VAC,50 / 60 Hz,1000 W (包括真空泵和冷水机组)

电源

  • 包括一个13.5 MHz,300 W自动匹配RF发生器并连接到溅射头
  • 可旋转开关可一次激活一个溅射头。在多层工艺期间,溅射头可以“在等离子体中”切换而不会破坏真空。
  • 多个RF电源是可选的,允许用户同时溅射多个靶以进行组合溅射
  • 带有控制软件的笔记本电脑需要额外付费才能控制每个射频枪的溅射时间和功率

磁控溅射头

  • 包括五个1“带水冷套的磁控溅射头,并通过快速夹具插入石英腔
  • 一个手动操作的快门建在法兰上。  
  • 一个10升/分钟的数控循环冷水机组用于冷却溅射头。

溅射靶

  • 目标尺寸要求:max1“直径×1/8”厚度
  • 溅射距离范围:50 - 80 mm可调
  • 溅射角度范围:0 - 25°可调 
  • 包括1“直径Cu靶和Al 2 O 3  靶用于演示测试

真空室

  • 真空室由304不锈钢和加强筋制成 
  • 内部真空室尺寸:  470 mm L×445 mm D×522 mm H(~105升,18.5“×17.5” × 20.5“)
  • 圆形380毫米直径。铰链式门,150毫米直径玻璃窗
  • 温度范围:-15至150°C
  • 真空度:  带涡轮泵的4.0E-5托

样品架

  • 150毫米直径的可旋转样品架,用于涂覆16个样品,一批具有不同的成分
  • 样品架和面罩旋转可通过按钮手动控制或由控制软件自动控制(可选)
  • 样品架温度可在zui高温度范围内调节至600℃

真空泵

  • 内置KF40真空端口,用于连接真空泵。
  • 包括紧凑型涡轮泵。

净重

60 kg

保证

一年有限保修,终身支持

免责声明:

本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等),仅供参考。可能由于更新不及时,会造成所述内容与实际情况存在一定的差异,请与本公司销售人员联系确认。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,本公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知。

豫公网安备 41019702002438号