产品详情
  • 产品名称:四路质子混气管式pecvd系统

  • 产品型号:CY-O1200-60-4CLV-PE
  • 产品厂商:其它品牌
  • 产品文档:
你添加了1件商品 查看购物车
简单介绍:
等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)技术是借助于辉光放电(等离子体)使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜生长的一种制备技术。我公司综合了多项实验要求设计生产了四路质子混气管式pecvd系统,能广泛适应各类薄膜研究的需要比如:石墨烯制备、C纳米材料制备、氧化物制备。是一款不可多得的薄膜制备器材
详情介绍:



与普通的CVD系统相比,因为有等离子源的介入,系统的沉积温度相对较低。
配备有滑轨式管式炉可以轻松实现快速降温,实现快速退火。   
 操控界面可配备液晶操作系统,图文显示,直观易懂,对于设备的使用操作简单易学 
 该系统较高工作温度接近1150℃,能满足大多数热处理场合。   
 该设备可具体用于:碳、 ZnO 纳米管或纳米线的制备也可以用于制备单层石墨烯以及各种CVD实验 。   





输出功率:          5 ~500W    ± 1% . 
 射频频率:          13.56 MHz    ±0.005% .
 反射功率:          较大约200W 
 阻抗匹配:          自动
                                四路质子混气管式pecvd系统




 双极旋片泵, 极限真空0.1Pa
 KFD25 快接,不锈钢波纹管,手动挡板阀与法兰,真空泵相连.
 管内真空可达1Pa
可选:本公司进口的防腐型数字式真空显示计,其测量范围为3.8x10-5 至 1125 Torr. 不需因测量气体种类不同而需要系数转换。(需要另外计算费用)
                          四路质子混气管式pecvd系统
质量流量计 三通道的质量流量计(精度0.02% ) :数字显示,自动控制.
 MFC 1范围:  0~100 sccm 
 MFC 2和3:    0~500 sccm  
 一个混气罐,底部装有泄废液口. 
 进气接口: 1/4NPS. 
出气接口: 1/4NPS. 
水冷系统 水冷法兰要求:水流量 >= 10L/M ,配有专业水冷机组。
                               四路质子混气管式pecvd系统
管式炉 炉管直径:80mm
炉管长度:1400mm
炉膛长度:440mm
控温精度:±1℃
工作温度:≦1200℃
                           四路质子混气管式pecvd系统

豫公网安备 41019702002438号