产品分类
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- 环境模拟试验设备
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- 实验室镀膜耗材
- 其他产品
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1500单温区φ50真... 该管式炉可以用于抽真空和通气氛，所以又叫真空管式炉和气氛管式炉还叫CVD管式炉和实验管式炉，广泛用于各种反应温度较高的C...
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1500℃单温区φ60... 成越1500℃单温区φ60管式炉可以用于抽真空和通气氛，所以又叫真空管式炉和气氛管式炉还叫CVD管式炉和实验管式炉，广泛...
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1500℃单温区φ80... 该管式炉可以用于抽真空和通气氛，所以又叫真空管式炉和气氛管式炉还叫CVD管式炉和实验管式炉，广泛用于各种反应温度较高的C...
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小型旋转管式炉 单温区旋转管式炉，可实现在气氛保护的环境下对粉末材料用CVD方法进行包裹和修饰。设备采用摩擦传动，无需额外固定，炉管拆卸...
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双温区滑动旋转管式炉 双温区滑动旋转管式炉通过机械传动控制工作管能360°不间断旋转，炉体在支架上能够前后滑动，可以实现快速升降温，双温区滑动...
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200mm大管径回转窑... 200mm大管径回转窑炉配有投料机构和旋转机构，能够保证反应连续均匀的发生，200mm大管径回转窑炉广泛应用于锂电池材料...
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自动进料旋转管式炉 该款管式炉CY-O1200-R100IT-AF为带有自动进料和收集设备的可旋转管式炉，采用双层风冷结构，炉体表面温度≤6...
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1200℃三温区旋转管... 1200℃三温区旋转管式炉，采用高纯石英制作变径石英管，专为粉末处理设计。旋转装置采用摩擦传动，倾角（0-15°）任意可...
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1600双温区真空旋转... 郑州成越科仪真空旋转管式炉采用7英寸液晶屏做控制系统，具有简单易学，操作方便，智能化程度高。郑州成越科仪真空旋转管式炉主...
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1200℃单温区旋转管... 1200℃开启式单温区旋转管式炉，采用高纯石英制作炉管。旋转装置为半导体致冷法兰，摩擦传动，倾角（0~15°）任意可调。...
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1200℃双温区旋转管... 1200℃开启式双温区旋转管式炉，采用高纯石英制作炉管。旋转装置为半导体致冷法兰，摩擦传动，倾角（0~15°）任意可调。...
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1200℃三温区旋转管... 1200℃开启式双温区旋转管式炉，采用高纯石英制作炉管。旋转装置为半导体致冷法兰，摩擦传动，倾角（0~15°）任意可调。...
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PECVD化学气相沉积... PECVD化学气相沉积系统采用等离子体增强型化学气相沉积技术，能够利用高能量等离子体促进反应过程，有效提升反应速度，降低...
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PEALD等离子增强原... 等离子增强原子层沉积（PEALD）系统是一种先进的薄膜沉积技术，结合了等离子体和原子层沉积（ALD）的优点，以实现更高的...
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等离子增强化学气相沉积... 化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术，基本温度低，沉积速率快，在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉...
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等离子体增强型化学气相... 化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术，能够利用高能量等离子体促进反应过程，有效提升反应速度，降低反应温度。适用...
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CVD化学气相沉积系统 CVD气相沉积系统广泛应用于材料科学和工程领域，用于制备各种功能性薄膜，如金属薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳纳米管等。...
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PECVD气相沉积 PECVD气相沉积在超大规模集成电路、光电器件、MEMS等领域具有广泛的应用
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双温区CVD化学气相沉... CVD（化学气相沉积）气相沉积系统是一种常用的薄膜制备技术，通过在高温下将气体反应物质与基底表面反应，形成薄膜
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三温区PECVD石墨烯... 三温区PECVD广泛用于石墨烯制备，颗粒包覆等科学实验上
