PECVD气相沉积系统
  • PECVD化学气相沉积... PECVD化学气相沉积系统采用等离子体增强型化学气相沉积技术，能够利用高能量等离子体促进反应过程，有效提升反应速度，降低...
  • PEALD等离子增强原... 等离子增强原子层沉积（PEALD）系统是一种先进的薄膜沉积技术，结合了等离子体和原子层沉积（ALD）的优点，以实现更高的...
  • 等离子增强化学气相沉积... 化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术，基本温度低，沉积速率快，在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉...
  • 等离子体增强型化学气相... 化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术，能够利用高能量等离子体促进反应过程，有效提升反应速度，降低反应温度。适用...
  • CVD化学气相沉积系统 CVD气相沉积系统广泛应用于材料科学和工程领域，用于制备各种功能性薄膜，如金属薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳纳米管等。...
  • PECVD气相沉积 PECVD气相沉积在超大规模集成电路、光电器件、MEMS等领域具有广泛的应用
  • 双温区CVD化学气相沉... CVD（化学气相沉积）气相沉积系统是一种常用的薄膜制备技术，通过在高温下将气体反应物质与基底表面反应，形成薄膜
  • 三温区PECVD石墨烯... 三温区PECVD广泛用于石墨烯制备，颗粒包覆等科学实验上
  • 热阴极直流等离子体化学... 热阴极直流等离子体化学气相沉积设备（DCCVD）是在常规冷阴极辉光放电基础上发展起来的，主要用于金刚石单晶或多晶膜的沉积...
  • 卷对卷PECVD石墨烯... 卷对卷PECVD石墨烯制备设备主要应用于计算机和智能手机屏幕，超轻、柔性的太阳能电池，以及新型的发光设备和其他薄膜电子产...
  • PECVD-R​旋转等... 本产品为PECVD-R​旋转等离子加强CVD设备。PECVD-R​旋转等离子加强CVD设备十分适合在气氛保护的环境下连续...
  • PE-HPCVD等离子... PE-HPCVD等离子增强物理化学气相沉积由一台双温区管式炉，一套钨丝蒸发源，一套等离子发生装置以及一套质量流量计组成。...
  • PECVD镀膜仪 CY-PECVD-450化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术，能够利用高能量等离子体促进反应过程，有效提升反应...
  • 单温区旋转PECVD石... 单温区旋转PECVD，安装有真空自动投料器，炉管尾部预留KF40接口可以连接收料罐。投料器采用螺杆进料，可以以额定的速率...
  • 卷对卷式PECVD 卷对卷式PECVD是等离子增强型化学气相沉积设备（PECVD），并加装了收放卷装置。本设备可用于线材的连续化热处理工艺中...
  • 等离子增强CVD系统 等离子增强CVD系统由等离子发生器，三温区管式炉、单温区管式炉、射频电源、真空系统组成。等离子增强CVD系统为了使化学反...
  • 等离子增强型CVD系统 CY-PECVD50R-1200-Q是一款等离子增强型CVD系统。此系统由150W射频电源、单温区管式炉、3通道质子流量...

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