PECVD气相沉积系统
  • 等离子增强化学气相沉积... 化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术,基本温度低,沉积速率快,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉...
  • 三温区PECVD石墨烯... 三温区PECVD广泛用于石墨烯制备,颗粒包覆等科学实验上
  • 热阴极直流等离子体化学... 热阴极直流等离子体化学气相沉积设备(DCCVD)是在常规冷阴极辉光放电基础上发展起来的,主要用于金刚石单晶或多晶膜的沉积...
  • 卷对卷PECVD石墨烯... 卷对卷PECVD石墨烯制备设备主要应用于计算机和智能手机屏幕,超轻、柔性的太阳能电池,以及新型的发光设备和其他薄膜电子产...
  • PECVD-R​旋转等... 本产品为PECVD-R​旋转等离子加强CVD设备。PECVD-R​旋转等离子加强CVD设备十分适合在气氛保护的环境下连续...
  • PE-HPCVD等离子... PE-HPCVD等离子增强物理化学气相沉积由一台双温区管式炉,一套钨丝蒸发源,一套等离子发生装置以及一套质量流量计组成。...
  • PECVD镀膜仪 CY-PECVD-450化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术,能够利用高能量等离子体促进反应过程,有效提升反应...
  • 单温区旋转PECVD石... 单温区旋转PECVD,安装有真空自动投料器,炉管尾部预留KF40接口可以连接收料罐。投料器采用螺杆进料,可以以额定的速率...
  • 卷对卷式PECVD 卷对卷式PECVD是等离子增强型化学气相沉积设备(PECVD),并加装了收放卷装置。本设备可用于线材的连续化热处理工艺中...

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