产品列表
  • 真空腔体 该真空腔体非常适合物理沉积 (PVD)、化学沉积 (CVD)、等离子体化学沉积 (PECVD)、热喷涂、电子束溅射等多种...
  • 四靶磁控溅射镀膜仪 四靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜...
  • 单靶直流磁控溅射镀膜仪 该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、...
  • 三靶直流磁控溅射镀膜仪 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜...
  • 带过渡舱三靶磁控溅射镀... 本设备为三靶磁控镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备
  • 光纤绕丝单靶磁控溅射镀... 单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪是一种用于制备薄膜的设备。它可以在基板表面形成均匀、致密、薄且具有特定性质的膜层
  • 三靶向上磁控溅射镀膜仪 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介电薄膜、光学薄膜、氧化膜、硬...
  • 双靶磁控溅射镀膜仪 双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛...
  • 单靶磁控光纤绕丝溅射镀... 单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪,专用于光纤制备薄膜,采用不锈钢高真空腔体,配有带挡板的观察窗,可以观察镀膜过程,挡板则能有效...
  • 台式紧凑型三靶磁控溅射... CY-VTC-3DC是专为非金属薄膜镀膜设计的三头2"射频等离子磁控溅射系统,主要用于多层氧化物薄膜,是新一代氧化物薄膜...
  • 双靶直流磁控溅射镀膜仪 双靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用...
  • 单靶直流磁控溅射镀膜仪 单靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,...
  • 带过渡舱型双靶磁控溅射... 本设备为双靶磁溅射控镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品...
  • 三英寸三靶磁控溅射镀膜... 三靶磁控镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬...
  • 台式射频电源单靶磁控溅... 本设备为单靶磁控镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备...
  • 桌面型下置靶不锈钢腔体... 本设备为桌面型下置靶不锈钢腔体单靶磁控溅射镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用...
  • 桌面型射频磁控溅射镀膜... 本设备为射频磁控溅射镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品...
  • 桌面型偏压单靶磁控溅射... 本设备为带偏压的桌面型单靶磁控镀膜仪,可用于一般金属薄膜的制备。设备同时配有偏压电源,可以用来进行进行溅射前的等离子清洗...
  • 桌面型不锈钢腔体单靶磁... 本设备为桌面型不锈钢腔体单靶磁控镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验...
  • 桌面型单靶磁控溅射镀膜... 本设备为单靶磁控镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备
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