- 磁控溅射镀膜仪
- 热蒸发镀膜仪
- 高温熔炼炉
- 等离子镀膜仪
- 可编程匀胶机
- 涂布机
- 等离子清洗机
- 放电等离子烧结炉
- 静电纺丝
- 金刚石切割机
- 快速退火炉
- 晶体生长炉
- 真空管式炉
- 旋转管式炉
- PECVD气相沉积系统
- 热解喷涂
- 提拉涂膜机
- 二合一镀膜仪
- 多弧离子镀膜仪
- 电子束,激光镀膜仪
- CVD气相沉积系统
- 立式管式炉
- 1200管式炉
- 高温真空炉
- 氧化锆烧结炉
- 高温箱式炉
- 箱式气氛炉
- 高温高压炉
- 石墨烯制备
- 区域提纯炉
- 微波烧结炉
- 粉末压片机
- 真空手套箱
- 真空热压机
- 培育钻石
- 二硫化钼制备
- 高性能真空泵
- 质量流量计
- 真空法兰
- 混料机设备
- UV光固机
- 注射泵
- 气体分析仪
- 电池制备
- 超硬刀具焊接炉
- 环境模拟试验设备
- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 其他产品
单温区旋转PECVD石墨烯制备
单温区旋转PECVD,安装有真空自动投料器,炉管尾部预留KF40接口可以连接收料罐。投料器采用螺杆进料,可以以额定的速率将粉料送入炉管,投料速率可通过调节转速来更改。可实现在气氛保护的环境下连续对粉末材料用PECVD方法进行包裹和修饰。收料罐可以在气氛保护环境下对处理好的料粉进行收集。
设备配有100W频率13.56MHz的视频电源。能够在真空中产生等离子体。高能等离子体能够活化样品表面,有效的增强反应效果,提高反应速率,这种辅助方法广泛用于石墨烯制备,颗粒包覆等科学实验上。
本设备特别适合颗粒型样品实验,通过机械传动能够控制工作管360°不间断连续旋转,转速可调,使得管内物料不断的被搅拌混合,充分与气体和等离子体接触,使样品的反应更加均匀稳定。
技术参数:
射频电源
|
输出功率 |
150W |
输出精度 |
±1% |
|
射频频率 |
13.56MHz |
|
射频稳定度 |
±0.005% |
|
冷却方式 |
风冷 |
|
1200℃单温区管式炉
|
供电电压 |
AC220V,50Hz |
*大功率 |
2KW |
|
加热温区 |
单个温区200mm |
|
工作温度 |
*高1200℃,连续运行温度应≤1100℃ |
|
控温精度 |
±1℃ |
|
控温方式 |
AI-PID 30段工艺曲线,可存储多条 三温区独立控制,带有过热和断偶保护 |
|
炉管材质 |
高纯石英 |
|
炉管尺寸 |
φ50x800mm |
|
密封方式 |
真空不锈钢法兰、KF16法兰 |
|
可调转速 |
0-20rpm |
|
倾斜角度 |
0-15° |
|
真空泵 |
旋片机械泵 |
|
极限真空度 |
1.0E-1Pa |
|
进料方式 |
真空漏斗加螺杆进料 |