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    • 往复样品台单靶磁控镀...
      桌面型单靶磁控镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有小型化、标准化的特点。磁控靶有1英寸、2英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选择;所配电源为150W直流电源,可用于金属溅射镀膜。镀膜仪配有通气接口,可以通入保护性气体,若客户需要通入混合气体,可以联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。仪器标配先进的涡轮分子泵组,极限真空可达1.0E-5Pa,同时另有其他类型的分子泵可供选购。
      三靶磁控溅射镀膜仪双...
      三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选购;所配电源为500W直流电源和500W射频电源,直流电源可用于金属薄膜的制备,射频电源可用于非金属膜的制备,三个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。若客户有其他镀膜需要,可以定制其他射频电源和脉冲电源,各型电源均有300W到1000W多种规格可选。
      带偏压双靶磁控镀膜仪
      双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。 磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点,镀膜速率高,样品温升低,是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层,水冷机能够有效的带走热量,避免热量在靶面聚集,使磁控镀膜能长时间稳定工作。 除此之外本设备还配有偏压电源,能够在靶材和样品台间添加偏压电场,增强离子的能量,提高成膜质量和薄膜的附着力。整机均采用触控屏控制,内置一键式镀膜程序,操作简单易上手,是一款实验室制备薄膜的理想设备。
      分体式单靶磁控镀膜仪
      本设备为单靶磁控镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备。 本套配置采用石英真空腔体,镀膜过程全向可视,便于实验的观察记录,腔体设计开启方便,易于清理,十分适合实验室使用。同时设备配有旋转加热样品台,可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。整机采用模块化设计,操作逻辑简单,操作界面直观,利于上手。 设备的真空获得系统采用两级真空泵组,前级泵为大抽速机械泵,有效缩从常压至低真空的时间,主泵为涡轮分子泵,抽速高,真空获取速度更快。 整体真空获得系统干净快速。
    • 多源高真空蒸发镀膜仪
      本设备为多源高真空蒸发镀膜仪,设备采用前开门式真空腔体设计,腔体空间大,可拓展性强,能够满足多样式大尺寸样品的蒸发镀膜。腔体内配有上置样品台,可根据用户样品样式选取夹持或卡位式样品安装部件。样品台可旋转、加热及升降,所有操作均通过触控屏集成控制。设备的真空泵组为两级式真空系统,由双极旋片真空泵和涡轮分子泵组成,可为真空镀膜试验提供清洁无油的高真空的环境;真空系统内含有完善的气动阀系统,用户可通过触控屏进行一键式操作实现抽取真空、不停机取放样、完全停机等操作。
      小型温控蒸发镀膜仪
      本小型程序控温蒸发镀膜仪可对程序进行设定,并精 确控制温度在200ºC-1500ºC的范围内进行变化,在对样品进行蒸发镀膜的过程中,样品台可进行旋转,以获得更均匀的薄膜。本型号的小型程序控温蒸发镀膜仪应用范围广,可制备各种金属薄膜和有机物薄膜,因此被广泛用于电极的制备和有机物发光LED的制备。仪器体积小巧,可有效节约实验室空间;操作简单,对不同材料的适应性强,因此被广泛应用于各大高校和科研院所的实验室当中。
      小型蒸发镀膜仪
      本仪器是一款小型蒸发镀膜仪,蒸发温度从200℃到1700℃,采用钨丝篮作为蒸发源,蒸发源外套高纯氧化铝坩埚。样品台距离蒸发源距离可调。小型蒸发镀膜仪拥有高精度的温度控制系统,采用循环加热方式,能够稳定蒸发金属及部分有机物。
      小型高真空热蒸发镀膜...
      本仪器是一款高真空紧凑型热蒸发镀膜仪,蒸发温度从200℃到1700℃,采用钨丝篮作为蒸发源,蒸发源外套高纯氧化铝坩埚。
    • 多弧离子镀膜仪
      本设备为多弧离子镀膜设备。多弧离子镀是利用气体放电或被蒸发物质部分离化,在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时,将蒸发物或反应物沉积在基片上。本设备配有两个多弧靶,分置于腔体两侧。配合行星式样品台可有效的提高镀膜效率,改善成效果 该镀膜仪还采用一体化设计,腔体和电控部分左右分置,实现了水电分离,有力的保证了用户的安全。
      三靶等离子溅射镀膜仪
      本型号小型等离子溅射仪,采用二极溅射方式,广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验。采用低温等离子体溅射工艺,镀膜过程中样品表面常温状态,没有热损伤。本型号仪器还配有旋转样品台,样品放在样品台上即可对准不同的溅射靶,实现多层镀膜的切换。同时该型号等离子溅射仪配备三组水冷型溅射靶,能够有效控制发热,维持长时间的溅射作业。该小型等离子溅射仪使用PLC控制系统,全部触摸屏操作,便于学习使用。设备体积小巧造型美观,是实验室镀膜试验的*佳选择。
      旋转加热等离子溅射镀...
      旋转加热等离子溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备,具有结构紧凑,简单易用,集成度高,设计感强的优势。等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸,客户可以根据需要选择1~3个靶的不同配置,以满足镀单层膜或者多种材料多层膜的不同实验需求。
      三靶等离子溅射镀膜仪
      三靶等离子溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备,等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸,客户可以根据需要选择1~3个靶的不同配置,以满足镀单层膜或者多种材料多层膜的不同实验需求。仪器所配电源为150W直流高压电源,可用于金属溅射镀膜,尤其适合金银铜等贵金属的镀膜。镀膜仪配有通气接口,可以通入保护性气体。仪器采用触摸屏控制,简单直观易于上手,能够一键实现镀膜启停、切换靶位、挡板旋转等操作,十分适合实验室选购。
    • 等离子溅射和蒸发二合...
      等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪配备了直流溅射靶和热蒸发组件,不但可以用于等离子溅射方式镀金属膜,也可以用蒸发的方式得到碳或者其他金属单质的薄膜。仪器元件高度集成化,在同一个腔体内即实现了两种镀膜功能;本镀膜仪采用304不锈钢腔体作真空腔体,镀膜过程完全可见。仪器标配双极旋片真空泵,能够快速达到1.0E-3Pa的真空度,极限真空度1.0E-5Pa,可满足大多数蒸发镀膜实验和二极溅射实验所需的真空环境。本仪器体积小,节省空间,能够置于试验台上使用,一机多用,性价比突出,非常适合各大高校及研究机构选用。
      等离子溅射蒸发二合一...
      CY-EVS180G-LV二合一镀膜仪,可用于电子产品、玻璃、陶瓷样品、金属等样品的镀膜。尤其适合实验室SEM(扫描电镜)的样品制备。 设备主要由石英真空室、等离子溅射靶,蒸发镀膜装置,放置样品的样品台,真空泵机组、真空测量规管,进气系统和控制系统组成。 设备主机采用触摸显示屏操作,温控表检测。其数字化参数界面和自动化操作方式为用户提供了优良的研发平台。真空室采用上中下结构,样品台与靶的距离灵活可调。 设备真空获得系统采用上等双极旋片泵。 具有体积小,噪音小,无油污污染等优点。 真空腔体采用石英加工而成,呈现圆柱结构,外形美观,大方。主要密封法兰采用 KF 系列高真空密封法兰。真空腔体各接口均采用橡胶密封圈密封,真空性能优良,能有效镀膜质量。
      小型二合一镀膜仪
      等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪配备了直流溅射靶和热蒸发组件,不但可以用于等离子溅射方式镀金属膜,也可以用蒸发的方式得到碳或者其他金属单质的薄膜。
      小型高真空二合一镀膜...
      等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪配备了直流溅射靶和热蒸发组件,不但可以用于等离子溅射方式镀金属膜,也可以用蒸发的方式得到碳或者其他金属单质的薄膜。
    • 亚克力八英寸匀胶机
      本型号匀胶机经过小型化设计,整体采用铝合金结构,腔体选用透明亚克力,外观美观坚固。仪器采用先进的精密电机,转速能达到10000转/分,有效的保障了成膜的均匀性。另外本仪器采用触控屏控制,可以预设匀胶曲线,大大简化了使用过程降低了学习成本,十分适合实验室选购。
      全自动超声波气氛加热...
      CY-SPC-HUA6匀胶机是一种小型、灵活的旋转匀胶设备,可通过超声波喷头把胶液喷洒在基片上,进而通过高速旋转使得胶液均匀涂覆在基片上。也可以单独进行旋涂操作。腔体内布有加热元件,可在匀胶后进行烤胶操作。产品带有两路浮子流量计控制的气路,可将惰性气体通入腔体内,在匀胶时保护胶液不收空气中的气体影响。 此款匀胶机适用于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺、制版的表面涂覆。可匀胶*大圆晶尺寸为6英寸,转速可达10000rpm,加速度可达5000rpm;具有转速稳定,启动迅速,操作方便等优点,并能保证匀胶厚度的一致性和均匀性,是一款性能优良的产品。
      净化型匀胶机
      净化型匀胶机广泛用于半导体硅片的匀胶镀膜等,例如对大型晶圆、芯片、晶片等进行工艺制版时,可用此设备进行各种胶体的表面涂覆或光刻工艺匀胶; 是集成电路及半导体器件生产过程中涂覆匀胶的专用设备 。该设备中涂胶部分含有两个工位的匀胶台,可分别独立工作,也可两台同时工作。
      防腐型聚四氟腔体匀胶...
      本型号匀胶机经过小型化设计,整体采用铝合金结构,防腐型聚四氟腔体,外观美观坚固。仪器采用先进的精密电机,*高转速能达到8000转/秒;控制依靠按键和高亮液晶屏,除直接匀胶外还能预存匀胶曲线进行程控匀胶。本仪器在极大的减小了体积的前提下有效的保障了仪器性能和功能,十分适合实验室选购。
    • 高压静电纺丝机
      本公司生产的高压静电纺丝机是一种基于电纺丝技术利用聚合物溶液或熔体在强电场中的喷射作用制备超细纤维的装置。高压静电纺丝机主要由四部分组成:液体供给装置、喷丝头、高压电源及收集装置。
      超声波热解喷涂机
      超声波热解喷涂机是由我公司自主研发的一款超声喷雾热解设备,超声波热解喷涂机配有40KHz 130W的超声波雾化器、PID控温的加热衬底基板、高精度蠕动泵以及精密程控的步进电机移动机构。
      纳米纤维双纺纱静电纺...
      纳米纤维静电纺丝机是一种台式静电纺丝系统,具有双重纺纱和学习功能,被称为生产纳米级纤维的有效,方便的方法之一。这些纳米纤维具有几个显着的特性,例如体积比大的表面积,高孔隙率,表面功能的灵活性和优异的机械性能。纳米纤维由于其突出的性质而被广泛应用于过滤和多功能膜,医疗用途和军事系统中。纳米纤维静电纺丝机是一种用于生产直径为20-1000nm的超细纤维的系统。与两个双通道注射泵集成在一起,可有效生产*高质量的纳米纤维
      台式静电纺丝和电喷雾...
      台式静电纺丝和电喷雾装置是一款高压静电纺丝机,专门用于制作纳米线或是在基底上进行涂层。仪器中的注射泵可连续不断地向喷头输送流体,且供液速度可调,满足不同纺丝溶液的需求,同时高压电源可为电纺丝提供长时间稳定的电场,其电场强度为0-30kV。台式静电纺丝和电喷雾装置的喷头和收集装置都封闭在一通风柜中,同时通风柜内部还安装有加热源,可使内部环境的zui高温度达到60℃。

    豫公网安备 41019702002438号