• 该真空气氛炉是理想的真空气氛烧结设备。可广泛用于不锈钢,钛,航天材料,碳化硅晶片,其他金属和陶瓷的焊...
    • 氧化锆结晶炉主要用于义齿加工厂完成二氧化锆牙冠的结晶烧结。该氧化锆结晶炉采用1800纯净型加热棒,对...
    • 该箱式炉通常又叫箱式电阻炉和高温箱式炉也叫实验电炉和实验电阻炉,主要用于空气气氛下的高温烧结、材料退...
    • RTP快速退火炉的主要特点有:可在真空/不同气氛/空气不同环境下,对样品进行快速热处理;控温精度高;...
    • 1200℃开启式单温区旋转管式炉,采用高纯石英制作炉管。旋转装置为半导体致冷法兰,摩擦传动,倾角(0...
    • 1200℃开启式单温区立式管式炉,采用高纯石英制作炉管。加热温区:440mm;恒温区200mm;炉管...
    • 该管式炉可以用于抽真空和通气氛,所以又叫真空管式炉和气氛管式炉还叫CVD管式炉和实验管式炉,广泛用于...
    • 在化学反应以及试验样品的处理中,有些物质对氧及水非常敏感,在普通自然环境中无法进行。在真空容器中虽能...
    • 该轨道式石墨烯制备管式炉主要用于CVD法制备石墨烯,利用该设备的炉体来回移动还可以实现快速升温和快速...
    • 我公司提供各种规格的管式炉专用石英管。所有石英管均采用高纯石英沙制作具有杂质含量少,使用温度高,不易...
    • 60石英管刚玉管用法兰材质为304不锈钢,采用全数控CNC精密加工,气密性好,耐腐蚀性强。该60石英...
    • 100石英管刚玉管不锈钢水冷法兰材质为304不锈钢,采用全数控CNC精密加工,气密性好,耐腐蚀性强。...
    • 80石英管刚玉管用水冷法兰材质为304不锈钢,采用全数控CNC精密加工,气密性好,耐腐蚀性强。该80...
    • 100石英管刚玉管用法兰材质为304不锈钢,采用全数控CNC精密加工,气密性好,耐腐蚀性强。该100...
    • 50石英管刚玉管用法兰材质为304不锈钢,采用全数控CNC精密加工,气密性好,耐腐蚀性强。该50石英...
    • 1L等离子清洗机13...
      1L等离子清洗机13.56MHz采用纯净的石英腔体,主机频率13.56MHz,可用于多种材料的高效清洗。清洗效果远远优于40KHz的低频清洗。台式高效等离子清洗机可用于手机屏幕、仪表屏幕等精密部件的高效清洗,也可用于材料表面的亲水性处理。1L等离子清洗机13.56MHz是材料制备过程中不可多得的理想产品。
      2L等离子清洗机13...
      2L13.56MHz等离子清洗机采用纯净的石英腔体,主机频率13.56MHz,可用于多种材料的高效清洗。清洗效果远远优于40KHz的低频清洗。台式高效等离子清洗机可用于手机屏幕、仪表屏幕等精密部件的高效清洗,也可用于材料表面的亲水性处理。2L13.56MHz等离子清洗机是材料制备过程中不可多得的理想产品。
      5L等离子清洗机13...
      台式高效等离子清洗机采用纯净的石英腔体,主机频率13.56MHz,可用于多种材料的高效清洗。清洗效果远远优于40KHz的低频清洗。台式高效等离子清洗机可用于手机屏幕、仪表屏幕等精密部件的高效清洗,也可用于材料表面的亲水性处理。台式高效等离子清洗机是材料制备过程中不可多得的理想产品。
      10L等离子清洗机1...
      成越科学仪器的10L等离子清洗机13.56MHz适用于块状、薄膜、织物、片材、颗粒、粉体等各种形状的多种材料(如塑料、橡胶、金属、陶瓷、玻璃、高分子材料及复合材料等)的表面改性处理;表面清洗、表面活化、表面刻蚀、表面接枝、表面沉积、表面聚合以及等离子体辅助化学气相沉积。
    • 小型等离子溅射仪
      CY-PDM-V180型小型等离子溅射仪,采用二极溅射方式,广泛用于场发射扫描电镜或透射电镜样品制备或高质量镀膜试验。采用阳极保护栅网,实现镀膜过程中样品表面保持常温状态,没有热损伤。该小型等离子溅射仪是基于PLC的强大控制系统,全部触摸屏操作,可手动、半自动控制、全自动控制。
      三靶等离子溅射镀膜仪
      这款三靶等离子镀膜仪是我公司研发的实验室用小型镀膜仪(直流普通型),可节省空间;采用了触摸屏模式的控制面板,操作更加简单便捷,放置样品的直径为50mm,加热温度可达500℃。CY-VTC16-3HD三靶等离子镀膜仪可溅射Au、Ag、Cu等多种靶材,并且样品台可以旋转,能够一次在同一样品上涂覆三层薄膜。
      单靶等离子溅射镀膜仪
      此款单靶等离子溅射镀膜仪为我公司研发的一款紧凑型的等离子溅射仪,可以对样品进行Au、Pt,In,Ag等多种金属的溅射镀膜。该单靶等离子溅射镀膜仪样品台直径为50mm,镀膜厚度可达300埃米,多用于SEM样品的镀膜。
    • 单靶磁控溅射镀膜仪
      本单靶磁控溅射镀膜仪配有一套磁控靶、一套300W的RF溅射电源(或一套500W的直流溅射电源或一套100W的偏压电源)。单靶磁控溅射镀膜仪在镀膜时,可根据需要分别手工连接至直流溅射电源、偏压电源及RF溅射电源。还可根据客户需要配置可旋转样品台、加热型样品台、多功能样品台,整机性价比高,是制作各种金属(或非金属)薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空系统。我公司还可根据客户具体需要定制单靶磁控溅射镀膜仪。
      三靶磁控溅射镀膜仪
      产品简介:CY-600-3HD三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研制开发的一款性价比较高的磁控溅射镀膜仪,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。 
      磁控溅射镀膜仪
      此款磁控溅射镀膜仪是依据二级(DC)直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。这款磁控溅射镀膜仪结构紧凑,体型小巧,适合实验室采购。
      双靶磁控溅射镀膜仪
      双靶磁控溅射镀膜仪CY-600-2HD为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。与同类设备相比,这款双靶磁控溅射镀膜仪不仅应用广泛,切体积小便于操作,是一款实验室制备薄膜的理想设备。
    • 多功能镀膜仪
      多功能镀膜仪是我公司独立研发的新型产品,既可进行等离子溅射法镀膜,也可进行蒸发镀膜。这款多功能镀膜仪可以与分子泵或者旋片式真空泵连接以获取不同的镀膜环境,已被广泛用于ITO镀膜和金属镀膜。
    • 小型蒸发镀膜仪
      CY-1100X-SPC15E-LD小型蒸发镀膜仪是我公司研发的一款结构紧凑的镀膜设备,该镀膜仪特别适合蒸镀一些轻金属,如Al、Mg、Li等;同时,该款小型蒸发镀膜仪还可以对样品进行镀碳处理,可以处理的样品的直径为50mm。
    • 智能型管式炉
      成越科仪生产的智能型管式炉采用目前最流行的触摸屏智能控制技术,整机采用模块化设计,机械结构合理紧凑。该款智能型管式炉的液晶显示色彩高达26万色,不仅色彩艳丽,而且对比度强,给你非同凡响的用户体验。该款智能型管式炉主要用于:各种CVD实验,气氛烧结,高温处理;特别适合制备氧化物,硫化物。经过长期的市场投放,得到广大客户的一致好评,在当前鱼目混杂的管式炉市场上我公司的智能型管式炉凭借过
      智能型真空管式炉
      成越科仪生产的智能型真空管式炉采用目前最流行的触摸屏智能控制技术,整机采用模块化设计,机械结构合理紧凑。该款智能型真空管式炉的液晶显示色彩高达26万色,不仅色彩艳丽,而且对比度强,给你非同凡响的用户体验。该款智能型真空管式炉主要用于:各种CVD实验,气氛烧结,高温处理;特别适合制备氧化物,硫化物。经过长期的市场投放,得到广大客户的一致好评,在当前鱼目混杂的管式炉市场上我公司的智能型真空管式炉凭借过硬的质量和优异的性能以及较高的性价比脱颖而出,独占鳌头。
      管式炉
      该管式炉可以用于抽真空和通气氛,所以又叫真空管式炉和气氛管式炉还叫CVD管式炉和实验管式炉,广泛用于各种反应温度较高的CVD实验、真空烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域,较高温度可达1700℃。加热温区:460mm;恒温区:150mm;炉管直径:50mm;炉管长度:1000mm;整机功率:4.5KW;多段程序控温。
      管式炉
      该管式炉可以用于抽真空和通气氛,所以又叫真空管式炉和气氛管式炉还叫CVD管式炉和实验管式炉,广泛用于各种反应温度较高的CVD实验、真空烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域,较高温度可达1700℃。加热温区:460mm;恒温区:150mm;炉管直径:60mm;炉管长度:1000mm;整机功率:4.5KW;多段程序控温。

    豫公网安备 41019702002438号