• 10L等离子清洗机 500W/1000W是一种小型化、非破坏性的清洗设备。该等离子清洗机采用低气压激...
    • 本型号匀胶机采用全铝合金腔体,外观美观坚固;腔体上盖则采用360°可视的有机玻璃设计,便于客户使用过...
    • 感应炉CY-GYL-15是一款顶部带有真空吸铸装置的15KW感应加热/熔化系统。这种独特的结构设计通...
    • 超声波热解喷涂机是由我公司自主研发的一款超声喷雾热解设备,超声波热解喷涂机配有40KHz 130W的...
    • 本产品是一款小型的1100℃布里奇曼晶体生长炉,配有2英寸的石英管,精密提拉机。布里奇曼晶体生长炉用...
    • 1700℃管式炉采用高质量硅钼棒作为加热元件,加热温度可高达1700℃,炉管管径为50mm,采用高纯...
    • 磁控溅射/真空蒸发复...
      磁控溅射/真空蒸发复合型镀膜设备将磁控溅射技术和真空蒸发技术结合在同一镀膜设备里,既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子溅出并部分离化沉积在基材上成膜,同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料熔融并让其汽化再沉积在基材上成膜。增加了设备的用途和灵活性。该设备应用于手机壳等塑料表面金属化,应用于不导电膜和电磁屏蔽膜沉积。
      三靶磁控溅射镀膜仪(...
      三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选购;所配电源为500W直流电源和300W射频电源,直流电源可用于金属薄膜的制备,射频电源可用于非金属膜的制备,三个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。若客户有其他镀膜需要,可以定制其他射频电源和脉冲电源,各型电源均有300W到1000W多种规格可选
      三靶磁控溅射镀膜仪(...
      三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选购;所配电源为500W直流电源,直流电源可用于金属薄膜的制备,三个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。若客户有其他镀膜需要,可以定制射频电源和脉冲电源,各型电源均有300W到1000W多种规格可
      三靶磁控溅射镀膜仪(...
      三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选购;所配电源为三个300W射频电源,射频电源可用于非金属薄膜的制备,三个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。若客户有其他镀膜需要,可以定制直流电源和脉冲电源,各型电源均有300W到1000W多种规格可选。
    • 15L等离子清洗机
      15L等离子清洗机是一种小型化、非破坏性的清洗设备。该等离子清洗机采用低气压激发等离子体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。10L等离子清洗机 500W/1000W配有一台机械真空泵,在抽真空维持腔体真空度的同时也能将被等离子反应后的污染物通过真空泵抽走;因此短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉。
      10L等离子清洗机 ...
      10L等离子清洗机 500W/1000W是一种小型化、非破坏性的清洗设备。该等离子清洗机采用低气压激发等离子体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。10L等离子清洗机 500W/1000W配有一台机械真空泵,在抽真空维持腔体真空度的同时也能将被等离子反应后的污染物通过真空泵抽走;因此短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉。
      300瓦 10L等离...
      300瓦 10L等离子清洗机是一种小型化、非破坏性的清洗设备。该等离子清洗机采用低气压激发等离子体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。300瓦 10L等离子清洗机配有一台机械真空泵,在抽真空维持腔体真空度的同时也能将被等离子反应后的污染物通过真空泵抽走;因此短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉。
      100瓦/150瓦 ...
      100瓦/150瓦 10L等离子清洗机是一种小型化、非破坏性的清洗设备。100瓦/150瓦 10L等离子清洗机采用低气压激发等离子体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。仪器配有一台机械真空泵,在抽真空维持腔体真空度的同时也能将被等离子反应后的污染物通过真空泵抽走;因此短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉。
    • 高压静电纺丝机
      本公司生产的高压静电纺丝机是一种基于电纺丝技术利用聚合物溶液或熔体在强电场中的喷射作用制备超细纤维的装置。高压静电纺丝机主要由四部分组成:液体供给装置、喷丝头、高压电源及收集装置。
      超声波热解喷涂机
      超声波热解喷涂机是由我公司自主研发的一款超声喷雾热解设备,超声波热解喷涂机配有40KHz 130W的超声波雾化器、PID控温的加热衬底基板、高精度蠕动泵以及精密程控的步进电机移动机构。
      纳米纤维静电纺丝机
      纳米纤维静电纺丝机是一种台式静电纺丝系统,具有双重纺纱和学习功能,被称为生产纳米级纤维的有效,方便的方法之一。这些纳米纤维具有几个显着的特性,例如体积比大的表面积,高孔隙率,表面功能的灵活性和优异的机械性能。纳米纤维由于其突出的性质而被广泛应用于过滤和多功能膜,医疗用途和军事系统中。纳米纤维静电纺丝机是一种用于生产直径为20-1000nm的超细纤维的系统。
      台式静电纺丝和电喷雾...
      台式静电纺丝和电喷雾装置是一款高压静电纺丝机,专门用于制作纳米线或是在基底上进行涂层。仪器中的注射泵可连续不断地向喷头输送流体,且供液速度可调,满足不同纺丝溶液的需求,同时高压电源可为电纺丝提供长时间稳定的电场,其电场强度为0-30kV。台式静电纺丝和电喷雾装置的喷头和收集装置都封闭在一通风柜中,同时通风柜内部还安装有加热源,可使内部环境的zui高温度达到60℃。
    • 小型温控蒸发镀膜仪
      本小型程序控温蒸发镀膜仪可对程序进行设定,并精 确控制温度在200ºC-1500ºC的范围内进行变化,在对样品进行蒸发镀膜的过程中,样品台可进行旋转,以获得更均匀的薄膜。本型号的小型程序控温蒸发镀膜仪应用范围广,可制备各种金属薄膜和有机物薄膜,因此被广泛用于电极的制备和有机物发光LED的制备。仪器体积小巧,可有效节约实验室空间;操作简单,对不同材料的适应性强,因此被广泛应用于各大高校和科研院所的实验室当中。
      小型蒸发镀膜仪
      本仪器是一款小型蒸发镀膜仪,蒸发温度从200℃到1700℃,采用钨丝篮作为蒸发源,蒸发源外套高纯氧化铝坩埚。样品台距离蒸发源距离可调。小型蒸发镀膜仪拥有高精度的温度控制系统,采用循环加热方式,能够稳定蒸发金属及部分有机物。
      小型高真空热蒸发镀膜...
      本仪器是一款高真空紧凑型热蒸发镀膜仪,蒸发温度从200℃到1700℃,采用钨丝篮作为蒸发源,蒸发源外套高纯氧化铝坩埚。
      近距离蒸发镀膜炉
      近距离蒸发镀膜炉是一种双加热区快速热处理炉,具有11"外径的石英管。它是专为PVD或CSS(近距离升华)薄膜涂层3英寸直径或2"×2"。近距离蒸发镀膜炉采用两组卤素加热器(顶部和底部),zui大加热速率20ºC/s。两个30段精密温度控制器内置,精度为+/-1ºC。包括RS485端口和控制软件,允许通过PC操作炉子和温度曲线记录。它是研究新一代太阳能电池薄膜的主要工具,如CdTe、硫化物和钙钛矿太阳能电池。
    • 三靶等离子溅射镀膜仪
      三靶等离子溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备,等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸,客户可以根据需要选择1~3个靶的不同配置,以满足镀单层膜或者多种材料多层膜的不同实验需求。仪器所配电源为150W直流高压电源,可用于金属溅射镀膜,尤其适合金银铜等贵金属的镀膜。镀膜仪配有通气接口,可以通入保护性气体。仪器采用触摸屏控制,简单直观易于上手,能够一键实现镀膜启停、切换靶位、挡板旋转等操作,十分适合实验室选购。
      双靶等离子溅射镀膜仪
      双靶等离子溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备,具有结构紧凑,简单易用,集成度高,设计感强的优势。等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸,客户可以根据需要选择1~3个靶的不同配置,以满足镀单层膜或者多种材料多层膜的不同实验需求。仪器所配电源为150W直流高压电源,可用于金属溅射镀膜,尤其适合金银铜等贵金属的镀膜。镀膜仪配有通气接口,可以通入保护性气体,若客户需要通入混合气体,可以联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。
      小型等离子溅射镀膜仪
      小型等离子溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备,具有结构紧凑,简单易用,集成度高,设计感强的优势。等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸。仪器所配电源为150W直流高压电源,可用于金属溅射镀膜,尤其适合金银铜等贵金属的镀膜,常用于实验室扫描电镜样品的导电薄膜制备,也被称作“喷金仪”。镀膜仪配有通气接口,可以通入保护性气体,若客户需要通入混合气体,可以联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。
      三靶等离子溅射镀膜仪
      这款三靶等离子镀膜仪是我公司研发的实验室用小型镀膜仪(直流普通型),可节省空间;采用了触摸屏模式的控制面板,操作更加简单便捷,放置样品的直径为50mm,加热温度可达500℃。CY-VTC16-3HD三靶等离子镀膜仪可溅射Au、Ag、Cu等多种靶材,并且样品台可以旋转,能够一次在同一样品上涂覆三层薄膜。
    • 小型二合一镀膜仪
      等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪配备了直流溅射靶和热蒸发组件,不但可以用于等离子溅射方式镀金属膜,也可以用蒸发的方式得到碳或者其他金属单质的薄膜。
      小型高真空二合一镀膜...
      等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪配备了直流溅射靶和热蒸发组件,不但可以用于等离子溅射方式镀金属膜,也可以用蒸发的方式得到碳或者其他金属单质的薄膜。
      等离子溅射和碳蒸发二...
      等离子溅射和碳蒸发二合一镀膜仪是一款二合一紧凑型涂层装置,配有双级旋转叶片真空泵,可将等离子溅射和蒸发集成到一台小型机器中。等离子溅射和碳蒸发二合一镀膜仪专门用于制备SEM和EDAX样品,低成本下用于材料分析中的微观结构和微区成分分析,可以涂覆各种材料,包括碳。
      多功能镀膜仪
      多功能镀膜仪是我公司独立研发的新型产品,既可进行等离子溅射法镀膜,也可进行蒸发镀膜。这款多功能镀膜仪可以与分子泵或者旋片式真空泵连接以获取不同的镀膜环境,已被广泛用于ITO镀膜和金属镀膜。

    豫公网安备 41019702002438号