• 实验电炉配套的各种材质和尺寸的各种坩埚。主要有:刚玉坩埚、石英坩埚、石墨坩埚、氧化锆坩埚和定制各种材...
    • 我公司大量提供各种规格的K型热电偶。每支热电偶出厂之前都经过严格的校验、筛选;确保温度信号的测量精度...
    • 该纯净型加热棒主要用于各种炉膛温度在1200℃以上的实验电炉。表面已做二次纯化处理,不会变色,不会挥...
    • 高纯氧化锆微珠(TZPCeramicsbeads)具有密度大,强度高,耐磨,耐腐蚀性能好,热膨胀系数...
    • 该耐高温真空泵采用内置风扇和大面积散热的风冷设计,大幅度降低泵的表面温升;采用耐高温密封圈和进口耐高...
    • 该小型行星球磨机是集:混合、研磨、粉体制备、材料分散等多重功能为一体的混料设备。该行星式球磨机体积小...
    • 郑州成越科学仪器提供各种规格的管式炉专用石英管。所有石英管均采用高纯石英沙制作具有杂质含量少,使用温...
    • 60石英管刚玉管用法兰材质为304不锈钢,采用全数控CNC精密加工,气密性好,耐腐蚀性强。该60石英...
    • 100石英管刚玉管用法兰材质为304不锈钢,采用全数控CNC精密加工,气密性好,耐腐蚀性强。该100...
    • 带测温孔的管式炉法兰材质为304不锈钢,采用全数控CNC精密加工,气密性好,耐腐蚀性强。该带测温孔的...
    • 带快拧接头的管式炉法兰材质为304不锈钢,采用全数控CNC精密加工,气密性好,耐腐蚀性强。该带快拧接...
    • 耐腐蚀的管式炉法兰材质为304不锈钢和聚四氟两种材料复合而成,采用全数控CNC精密加工,气密性好,耐...
    • 带铰链的管式炉法兰材质为304不锈钢,采用全数控CNC精密加工,气密性好,耐腐蚀性强。该带铰链的管式...
    • 小型二合一镀膜仪
      等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪配备了直流溅射靶和热蒸发组件,不但可以用于等离子溅射方式镀金属膜,也可以用蒸发的方式得到碳或者其他金属单质的薄膜。
      小型高真空二合一镀膜...
      等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪配备了直流溅射靶和热蒸发组件,不但可以用于等离子溅射方式镀金属膜,也可以用蒸发的方式得到碳或者其他金属单质的薄膜。
    • 小型温控蒸发镀膜仪
      本小型程序控温蒸发镀膜仪可对程序进行设定,并精 确控制温度在200ºC-1500ºC的范围内进行变化,在对样品进行蒸发镀膜的过程中,样品台可进行旋转,以获得更均匀的薄膜。本型号的小型程序控温蒸发镀膜仪应用范围广,可制备各种金属薄膜和有机物薄膜,因此被广泛用于电极的制备和有机物发光LED的制备。仪器体积小巧,可有效节约实验室空间;操作简单,对不同材料的适应性强,因此被广泛应用于各大高校和科研院所的实验室当中。
      小型蒸发镀膜仪
      本仪器是一款小型蒸发镀膜仪,蒸发温度从200℃到1700℃,采用钨丝篮作为蒸发源,蒸发源外套高纯氧化铝坩埚。样品台距离蒸发源距离可调。小型蒸发镀膜仪拥有高精度的温度控制系统,采用循环加热方式,能够稳定蒸发金属及部分有机物。
      小型高真空热蒸发镀膜...
      本仪器是一款高真空紧凑型热蒸发镀膜仪,蒸发温度从200℃到1700℃,采用钨丝篮作为蒸发源,蒸发源外套高纯氧化铝坩埚。
    • 三靶等离子溅射镀膜仪
      三靶等离子溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备,具有结构紧凑,简单易用,集成度高,设计感强的优势。等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸,客户可以根据需要选择1~3个靶的不同配置,以满足镀单层膜或者多种材料多层膜的不同实验需求。仪器所配电源为150W直流高压电源,可用于金属溅射镀膜,尤其适合金银铜等贵金属的镀膜。镀膜仪配有通气接口,可以通入保护性气体,若客户需要通入混合气体,可以联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。
      双靶等离子溅射镀膜仪
      双靶等离子溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备,具有结构紧凑,简单易用,集成度高,设计感强的优势。等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸,客户可以根据需要选择1~3个靶的不同配置,以满足镀单层膜或者多种材料多层膜的不同实验需求。仪器所配电源为150W直流高压电源,可用于金属溅射镀膜,尤其适合金银铜等贵金属的镀膜。镀膜仪配有通气接口,可以通入保护性气体,若客户需要通入混合气体,可以联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。
      单靶等离子溅射镀膜仪
      单靶等离子溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备,具有结构紧凑,简单易用,集成度高,设计感强的优势。等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸,客户可以根据需要选择1~3个靶的不同配置,以满足镀单层膜或者多种材料多层膜的不同实验需求。仪器所配电源为150W直流高压电源,可用于金属溅射镀膜,尤其适合金银铜等贵金属的镀膜。镀膜仪配有通气接口,可以通入保护性气体,若客户需要通入混合气体,可以联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。
    • 三靶磁控溅射镀膜仪(...
      三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选购;所配电源为500W直流电源和300W射频电源,直流电源可用于金属薄膜的制备,射频电源可用于非金属膜的制备,三个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。若客户有其他镀膜需要,可以定制其他射频电源和脉冲电源,各型电源均有300W到1000W多种规格可选
      三靶磁控溅射镀膜仪(...
      三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选购;所配电源为500W直流电源,直流电源可用于金属薄膜的制备,三个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。若客户有其他镀膜需要,可以定制射频电源和脉冲电源,各型电源均有300W到1000W多种规格可
      三靶磁控溅射镀膜仪(...
      三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选购;所配电源为三个300W射频电源,射频电源可用于非金属薄膜的制备,三个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。若客户有其他镀膜需要,可以定制直流电源和脉冲电源,各型电源均有300W到1000W多种规格可选。
      双靶磁控溅射镀膜仪(...
      双靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选购;所配电源为300W射频电源加500W直流电源,直流电源可用于金属薄膜的制备,射频电源可用于非金属膜的制备,两个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。若客户有其他镀膜需要,可以定制直流电源和脉冲电源,各型电源均有300W到1000W多种规格可选。
    • 小型粉末PVD包覆系...
      小型粉末PVD包覆系统是一款小型粉末包覆系统,主要有2英寸磁控溅射头和振动样品台组成。小型粉末PVD包覆系统粉末在振动样品台上振动翻滚,通过溅射在粉末表面进行包覆形成核壳结构。直流磁控溅射适合粉体表面包覆金属材料.射频磁控溅射适合材料表面包覆非金属材料或碳。
      激光镀膜设备
      激光镀膜设备系统由真空腔室(主溅射室、进样室)、样品传递机构、样品架、旋转靶台、真空排气、真空测量、电器控制、配气、计算机控制等各部分组成。激光镀膜设备广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。
      有机无机蒸发镀膜仪
      有机无机蒸发镀膜仪采用直线式结构,主要由二个有机材料生长室组成,两个有机材料生长室之间通过闸板阀联接,其中一个生长室系统预留与手套箱对接接口,能够完成二套独立的制备薄膜系统之间互相传送基片。有机无机蒸发镀膜仪的有机材料生长室主要由真空室腔体组件、有机蒸发源、热阻蒸发舟、样品传递装置、样品台、膜厚监测仪、真空室照明装置、烘烤装置等组成。
      电子束蒸发镀膜仪
      电子束蒸发镀膜仪系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。电子束蒸发镀膜仪可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。
    • 高压静电纺丝机
      本公司生产的高压静电纺丝机是一种基于电纺丝技术利用聚合物溶液或熔体在强电场中的喷射作用制备超细纤维的装置。高压静电纺丝机主要由四部分组成:液体供给装置、喷丝头、高压电源及收集装置。
      超声波热解喷涂机
      超声波热解喷涂机是由我公司自主研发的一款超声喷雾热解设备,超声波热解喷涂机配有40KHz 130W的超声波雾化器、PID控温的加热衬底基板、高精度蠕动泵以及精密程控的步进电机移动机构。
      卷对卷静电纺丝机
      卷对卷静电纺丝机是一款桌面型静电纺丝涂布系统,配有自动卷对卷放料和收料系统。注射泵连续准确的输送浆料,以达到均匀纺丝制膜的效果。高压电源可提供0-50KV的电压输出。加热平台对制薄膜进行快速烘干,在收卷之前。卷对卷静电纺丝机提供了纳米纤维的整套制作流程:纺丝,薄膜烘干和收集。
      高通量喷雾热解系统
      高通量喷雾热解系统是一种高通量的喷雾热解系统,它具有三种类型的溶液和涂层,不同的组合组合为18mm直径的程序。基板zui多36个位置。涂布室是真空的,可在受控气氛下进行喷雾分解。高通量喷雾热解系统是一种智能设备,可以更快的速度探索电池电极和钙钛矿太阳能电池的新一代材料 。

    豫公网安备 41019702002438号