产品分类
- 磁控溅射镀膜仪
- 培育钻石
- 热蒸发镀膜仪
- 涂布机
- 可编程匀胶机
- PECVD气相沉积系统
- 二合一镀膜仪
- 放电等离子烧结炉
- 静电纺丝
- 等离子镀膜仪
- 热解喷涂
- 电子束，激光镀膜仪
- 等离子清洗机
- CVD气相沉积系统
- 多弧离子镀膜仪
- 金刚石切割机
- 真空管式炉
- 立式管式炉
- 晶体生长炉
- 旋转管式炉
- 1200管式炉
- 高温真空炉
- 氧化锆烧结炉
- 高温箱式炉
- 箱式气氛炉
- 高温高压炉
- 快速退火炉
- 石墨烯制备
- 高温熔炼炉
- 高性能真空泵
- 质量流量计
- 真空法兰
- 二硫化钼制备
- 混料机设备
- 真空手套箱
- 粉末压片机
- 真空热压机
- 区域提纯炉
- 微波烧结炉
- UV光固机
- 注射泵
- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 气体分析仪
- 提拉涂膜机
- 电池制备
- 超硬刀具焊接炉
- 环境模拟试验设备
- 其他产品
-
双靶磁控溅射镀膜仪 双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛...
-
单靶磁控光纤绕丝溅射镀... 单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪，专用于光纤制备薄膜,采用不锈钢高真空腔体，配有带挡板的观察窗，可以观察镀膜过程，挡板则能有效...
-
台式紧凑型三靶磁控溅射... CY-VTC-3DC是专为非金属薄膜镀膜设计的三头2"射频等离子磁控溅射系统，主要用于多层氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜...
-
双靶直流磁控溅射镀膜仪 双靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用...
-
单靶直流磁控溅射镀膜仪 单靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，...
-
带过渡舱型双靶磁控溅射... 本设备为双靶磁溅射控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品...
-
三英寸三靶磁控溅射镀膜... 三靶磁控镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬...
-
台式射频电源单靶磁控溅... 本设备为单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备...
-
桌面型下置靶不锈钢腔体... 本设备为桌面型下置靶不锈钢腔体单靶磁控溅射镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用...
-
桌面型射频磁控溅射镀膜... 本设备为射频磁控溅射镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品...
-
桌面型偏压单靶磁控溅射... 本设备为带偏压的桌面型单靶磁控镀膜仪，可用于一般金属薄膜的制备。设备同时配有偏压电源，可以用来进行进行溅射前的等离子清洗...
-
桌面型不锈钢腔体单靶磁... 本设备为桌面型不锈钢腔体单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验...
-
桌面型单靶磁控溅射镀膜... 本设备为单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备
-
磁控溅射镀膜仪带振动样... 带振动样品台的三靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有三个靶位的实验室专用于处理粉末及颗粒样品的镀膜仪，设备配有两台直流电源...
-
桌面型石英腔体单靶磁控... 本设备为桌面型单靶磁控镀膜仪。设备经过小型化设计，将设备外形限制在了桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电...
-
桌面型偏置靶单靶磁控镀... 单靶磁控镀膜仪配有一个直流电源，可用于金属及其他导电材料的溅射。单靶磁控镀膜仪真空系统采用涡轮分子泵组，抽气速度快，极限...
-
行星式单靶磁控镀膜仪 本设备为桌面型行星式单靶磁控镀膜仪，腔体下半部为不锈钢机构，上部为高纯石英，兼顾了真空性能和容纳复杂样品台的功能型。设备...
-
桌面型靶下置型磁控镀膜... 本设备为桌面型单靶磁控镀膜仪。设备经过小型化设计，将设备外形限制在了桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电...
-
倾斜样品台式单靶磁控镀... 本设备为倾斜样品台式单靶磁控镀膜仪，样品台与靶面的角度可调，可用于制作特定生长角度的薄膜。设备外形为桌面级别，大大减少了...
-
桌面型不锈钢腔体双靶磁... 双靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备
