可编程匀胶机
  • 全自动匀胶机旋涂仪 全自动匀胶机旋涂仪是一种基于离心力原理的精密涂覆设备,通过程序化控制基片旋转速度、加速度和时间,实现液体材料(如光刻胶、...
  • 光刻胶烤胶机 光刻胶烤胶机在半导体及相关领域的光刻工艺中,主要用于光刻胶的烘烤和固化,确保图案转移的**性和工艺稳定性
  • 8英寸晶圆烤胶机 8英寸晶圆烤胶机在半导体及相关领域的光刻工艺中,主要用于光刻胶的烘烤和固化,确保图案转移的**性和工艺稳定性
  • 12英寸聚四氟腔体防腐... 本产品为旋涂仪也称匀胶机,是利用高速旋转产生的离心力来涂覆膜料的设备。本型号采用工业级大功率伺服电机,可实现更好的稳定性...
  • 摆臂匀胶机旋涂仪 摆臂匀胶机主要利用离心涂覆原理将液态或胶体材料涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,该工艺在材料研究领域有着广泛...
  • 全自动匀胶机旋涂仪 旋涂仪是一种实验室设备,主要用于制备薄膜材料,其应用范围包括制备太阳能电池,制备金属、半导体、氧化物、聚合物等材料的薄膜...
  • 12寸防腐匀胶机旋涂仪 12寸防腐匀胶机旋涂仪可以将液态或胶体材料涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要应用于光刻胶旋涂、生物培养基...
  • 亚克力八英寸匀胶机带蠕... 匀胶机可以将液态或胶体材料涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要应用于光刻胶旋涂、生物培养基制作、溶胶凝胶法...
  • 净化旋涂仪带加热台 净化型匀胶机广泛用于半导体硅片的匀胶镀膜等,例如对大型晶圆、芯片、晶片等进行工艺制版时,可用此设备进行各种胶体的表面涂覆...
  • 1000MM匀胶机旋涂... 匀胶机旋涂仪是一种用于制备薄膜的仪器,广泛应用于材料学、物理学、化学等领域。它的主要工作原理是在高速旋转的基片上,利用离...
  • 托盘定位匀胶机旋涂仪 匀胶机旋涂仪可以将液态或胶体材料涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要应用于光刻胶旋涂、生物培养基制作、溶胶...
  • PP腔体旋涂仪 旋涂仪可以将液态或胶体材料涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上形成薄膜。主要用于光刻胶旋涂、生物介质制备、溶胶-凝胶法制...
  • 不锈钢腔体匀胶机 匀胶机是一种用于制备薄膜的仪器,广泛应用于材料学、物理学、化学等领域。它的主要工作原理是在高速旋转的基片上,利用离心力使...
  • 大型匀胶机旋涂仪 本设备为大型匀胶机,采用大功率伺服电机,配合高精度驱动器,可实现对大尺寸样品的**匀胶实验
  • 八英寸聚四氟腔体防腐旋... 匀胶机旋涂仪可以将液态或胶体材料涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要应用于光刻胶旋涂、生物培养基制作、溶胶...
  • 不锈钢腔体八英寸匀胶机... 匀胶机可以将液态或胶体材料涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要应用于光刻胶旋涂、生物培养基制作、溶胶凝胶法...
  • 全自动多层钙钛矿旋转涂... 全自动多层钙钛矿旋转涂层机适用于钙钛矿材料的涂膜,半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺
  • 12寸不锈钢腔体加热旋... 旋涂仪是一种实验室设备,主要用于制备薄膜材料,其应用范围包括制备太阳能电池,制备金属、半导体、氧化物、聚合物等材料的薄膜...
  • 8寸匀胶机带6通道独立... 匀胶机可以将液态或胶体材料涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要应用于光刻胶旋涂、生物培养基制作、溶胶凝胶法...
  • 全自动超声波气氛加热匀... 超声波气氛加热匀胶机是一款直径300mm、灵活的旋转匀胶设备,可通过超声波喷头把胶液喷洒在基片上,进而通过高速旋转使得胶...
  • 上一页123下一页
    上一页下一页

豫公网安备 41019702002438号