多功能镀膜仪的基本原理与应用

多功能镀膜仪是将蒸发镀膜、真空蒸碳以及等离子溅射镀膜三种功能整合在一起的设备，可以满足客户不同的实验需求。不但可以用等离子溅射的方式镀金属膜，也可以用蒸发的方式得到碳或其他金属单质的薄膜。

蒸发镀膜：真空蒸镀是将镀料在真空中加热、蒸发，使蒸发的原子或原子团在温度较低的基板上析出形成薄膜。

真空蒸碳在原理上也是属于真空蒸发镀膜，需要高真空环境，主要用于给SEM（扫描电子显微镜）样品镀导电膜。

等离子溅射镀膜属于直流二极溅射，由于等离子溅射是在低气压下进行的，因此薄膜纯度高，粘着力强。又由于是低能溅射，故可在熔点低的有机物上沉积薄膜。

多功能镀膜仪的基本操作流程：放置样品、安装装置、接线、定时、抽真空、调节电流、开始计时、镀膜完成。由于多功能镀膜仪涉及多种不同的镀膜方式，使用不同的功能时需要用户自行接线。

多功能镀膜仪可进行真空蒸碳、真空镀膜和离子溅射，它也可以在高纯氩气的保护之下进行多种离子处理。用本设备处理的试样既可用于样品的外貌观察又可以进行成分分析，尤其是成分的定量分析更为适宜。