- 磁控溅射镀膜仪
- 热蒸发镀膜仪
- 高温熔炼炉
- 等离子镀膜仪
- 可编程匀胶机
- 涂布机
- 等离子清洗机
- 放电等离子烧结炉
- 静电纺丝
- 金刚石切割机
- 快速退火炉
- 晶体生长炉
- 真空管式炉
- 旋转管式炉
- PECVD气相沉积系统
- 热解喷涂
- 提拉涂膜机
- 二合一镀膜仪
- 多弧离子镀膜仪
- 电子束,激光镀膜仪
- CVD气相沉积系统
- 立式管式炉
- 1200管式炉
- 高温真空炉
- 氧化锆烧结炉
- 高温箱式炉
- 箱式气氛炉
- 高温高压炉
- 石墨烯制备
- 区域提纯炉
- 微波烧结炉
- 粉末压片机
- 真空手套箱
- 真空热压机
- 培育钻石
- 二硫化钼制备
- 高性能真空泵
- 质量流量计
- 真空法兰
- 混料机设备
- UV光固机
- 注射泵
- 气体分析仪
- 电池制备
- 超硬刀具焊接炉
- 环境模拟试验设备
- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 其他产品

技术参数:
产品名称
微型电弧熔炼炉
产品型号
CY-DHLΦ168-QG-Φ4-4
主要特点
1.设计熔炼样品量 ≦ 10 g,温度可达3000℃
2.采用透明石英腔体(带有防护罩),可360°观测样品熔炼情况
3.水冷铜坩埚
4.熔炼枪可调节熔炼枪角度
5.真空接口用柔性波纹管连接可保证密封性。
真 空 计
设备上安装有一机械压力表,用于测量腔体内气压
可选购数显防腐真空计
电弧电源
输入电压: 380VAC , 三相
*大输入电流: 10A. (需要一40A的空气开关)
输出电压/电流:
22.6 V / 315A(直流)
采用按钮开关控制功率输出
钨 电 极
配有一直径为4mm的钨电极,枪头上带有水冷
电极枪可角度调节,用于熔炼多个样品
可熔炼样品量< 10 g,温度达到3000℃
坩 埚
配有水冷铜坩埚 4个工位,每个工位直Φ25mm×7mm(图1)
可按客户要求定制各种尺寸的铜坩埚
腔 体
采用石英腔体,尺寸为Φ168×136mmH
炉体尺寸
500 mm L × 450 mm W × 720 mm H
可选配件
1.真空泵(可选)
可选购各种真空泵
真空度:10^-2 torr(采用机械泵)
10^-5
torr (采用分子泵系统)
2.水冷机 (可选)
设备运行时需要通入冷却水,对电弧枪和铜坩埚进行冷却。可在本公司选购循环水冷机KJ-5000(水管规格为12mm 外径 x 8mm 内径)