- 磁控溅射镀膜仪
- 热蒸发镀膜仪
- 高温熔炼炉
- 等离子镀膜仪
- 可编程匀胶机
- 涂布机
- 等离子清洗机
- 放电等离子烧结炉
- 静电纺丝
- 金刚石切割机
- 快速退火炉
- 晶体生长炉
- 真空管式炉
- 旋转管式炉
- PECVD气相沉积系统
- 热解喷涂
- 提拉涂膜机
- 二合一镀膜仪
- 多弧离子镀膜仪
- 电子束,激光镀膜仪
- CVD气相沉积系统
- 立式管式炉
- 1200管式炉
- 高温真空炉
- 氧化锆烧结炉
- 高温箱式炉
- 箱式气氛炉
- 高温高压炉
- 石墨烯制备
- 区域提纯炉
- 微波烧结炉
- 粉末压片机
- 真空手套箱
- 真空热压机
- 培育钻石
- 二硫化钼制备
- 高性能真空泵
- 质量流量计
- 真空法兰
- 混料机设备
- UV光固机
- 注射泵
- 气体分析仪
- 电池制备
- 超硬刀具焊接炉
- 环境模拟试验设备
- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 其他产品

超高温大容量非自耗型高真空电弧炉是我公司根据科研单位实验要求精心研发设计的一款主要用于:熔炼难熔金属及合金,可进行冶炼、提纯、脱氧、除杂等。特别适合高校及科研院所进行新材料的真空冶炼或小批量制备。
一、设备组成:
主要由电弧熔炼真空室、电弧枪、电弧熔炼电源、五工位水冷铜坩埚、翻转机械手、工作气路、系统抽气、真空测量及电气控制系统、安装机台等各部分组成。
二、主要结构说明:
本产品主要由电弧熔炼真空室、上电极、下电极及炉门开启机构、上电极电动升降机构,真空系统及电弧电源系统等组成。 4.1电弧熔炼真空室:采用双层水冷结构,内外层为不锈钢组焊接而成,并做表面哑光处理,内壁精密抛光处理。炉体上设有翻转机械手,用于样品的熔炼翻转。设有观察窗,真空接口,充放气阀等,炉盖上设有上电极接口,结构新颖外形美观大方。
4.2上电极及上电极升降装置:上电极及升降装置,采用窝型万向设计,可360度自由旋转,电极升降采用丝杆升降,电动调节的方式,调节便携灵活。接口采用焊接波纹管连接,确保真空可靠密封。
4.3炉门开启:炉门开启采用手动打开,操作方便,装卸料简单。
4.4水冷铜坩埚:水冷铜坩埚采用紫铜加工而成,配置有不同容积,可根据熔炼的物料多少来选装。
4.5真空系统:真空系统采用日本进口磁悬浮分子泵+无油前级泵+英福康BPG400复合真空计和三台气动真空阀和各种管路组成,保证真空度优于8x10-4Pa。
4.6电源控制系统:控制系统与炉体采用一体化设计,并安装有模拟屏,操作按钮按照功能用途集中模块化布局,并配有模拟图形,识别度高,方便操作。电弧电源采用电弧熔炼专用电源,**系数高,稳定性强。电路设有断水报警及保护功能。
三、设备特点:
1·炉体采用304不锈钢设计,外形美观大方,永不生锈。
2·真空室采用立式双层圆筒水冷结构,可长时间进行真空冶炼
3 .配置大口径观察窗,可实时观察炉内的冶炼情况,并配有防炫目滤镜。3·冶炼温度高,温度可高达3500度以上。
4·采用电弧熔炼专用的脉冲电源,效率高、寿命长。
5·配有操作台和机械手使操作更加便捷。
6·配有触摸屏显示控制系统,控制数据直观显示,设备操作简单轻松,无需专业学习。真空度/压力/熔炼电流/熔炼电压数据记录
7. 配进口真空机组,带闸板阀、切断阀、旁抽阀可实现程序化自动真空,带**保护,可有效防止误操作造成对分子泵的人为损坏。
8.自带水冷机组,无需额外安装冷却水路。
9.配有专业进口红外测温探头,可监测熔炼温度,可进行超温保护。
10.水冷铜-钨电极可360度移动,操作灵活,同时配有多套水冷坩埚,可根据熔炼物料的多少来安装对应的坩埚。
11.带翻料用机械手,可在熔炼过程中对物料进行翻转,让物料冶炼更均匀
12.样品可以是粉末、丝状、屑状及钻屑、粒状、条状、环状、泥沙状等。
13.配有专业摄像机可监测熔炼过程,显示屏上具有颜色提醒,可用软件记录此过程实现熔炼可视化。
高真空电弧炉设备参数 :
产品名称 |
超高温大容量非自耗型高真空电弧炉 |
产品型号 |
CY-DHLΦ400-SS-Φ4-F |
腔体材料 |
304不锈钢 |
腔体结构 |
双层水冷式 |
腔体尺寸 |
直径大约400mm,高度大约350mm |
熔炼电极 |
水冷铜-钨复合结构 |
引弧方式 |
高频引弧; |
熔炼电流 |
≦2000A |
保护气体 |
氩气 |
分子泵 |
恒岳分子泵 |
前级泵 |
飞越真空泵 |
真空计 |
英福康BPG400复合真空计 |
设备极限真空 |
8×10-4Pa |
设备功率 |
<105kW |
系统抽速 |
从大气抽至7×10-3Pa≤45min |
熔炼坩埚 |
≦200g |
**保护 |
为保证设备**使用,配置系统检测与保护功能,如:缺水欠压检测与保护,强电相序检测与保护,温度检测与保护,真空系统检测与保护等。 |