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  • 产品名称:小型真空气氛水平式区熔炉

  • 产品型号:CY-1200X-20-TM
  • 产品厂商:成越科仪
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简单介绍:
小型真空气氛水平式区熔炉该设备属于水平管式区熔结晶炉,是紧凑型桌面式科研专用区域熔炼设备
详情介绍:

小型真空气氛水平式区熔炉该设备属于水平管式区熔结晶炉,是紧凑型桌面式科研专用区域熔炼设备,依托局部定点加热 + 样品匀速平移原理实现材料提纯、单晶生长,整机集成温控、平移驱动、真空气氛管路系统,体积小巧,适配高校实验室新材料研发小试样制备场景。

二、核心工作用途

1.材料提纯:利用区域熔炼偏析效应,金属、半导体、无机化合物棒料逐段熔融移动,杂质向棒材两端富集切除,大幅提升原料纯度;

2.定向单晶生长:在惰性气氛 / 真空环境下制备一维定向晶体、纤维状单晶;

3.梯度退火 / 固相反应:样品匀速经过温区,实现材料梯度热处理、固相扩散合成;

4.相图研究、固溶体制备:制备成分均匀的合金、陶瓷固溶体试样。

三、应用领域

1.半导体材料:锗、硅、II-VI 族半导体单晶提纯与小尺寸晶棒制备;

2.新能源材料:热电材料、锂电池固态电解质、钙钛矿前驱体晶体制备;

3.无机功能陶瓷:氧化物陶瓷、超导材料、稀土功能晶体研发;

4.金属冶金:稀有金属、贵金属、特种合金高纯精炼;

5.高校科研院所:材料科学、凝聚态物理实验室教学与课题实验。

四、设备核心优点

1.体积迷你,桌面摆放:整机台式一体化,无需大型实验室基建,占地小、搬运便捷;

2.无坩埚污染:局部熔融区悬浮熔炼,不接触坩埚容器,避免容器杂质掺入样品;

3.移动精度极高:样品平移速度连续可调,低速运行保障单晶生长均匀性;

4.气氛 / 真空双环境适配:可抽真空,通入氩气、氮气等保护气体,隔绝氧化;

5.智能触控温控:触摸屏可编程多段升降温,PID 闭环控温,温度波动小;

6.节能耐用:轻质陶瓷纤维炉膛保温优异,外壳风冷降温,外壁低温防**;

7.可视化工艺:管路配备压力表,实时监测腔内气压,工艺过程可控可追溯。

五、技术参数

产品名称

小型真空气氛水平式区熔炉

设备型号

CY-1200X-20-TM

*高温度

1200℃

长期连续工作温度

≤800℃

有效加热区长度

20mm

样品*大平移行程

200mm

样品移动速度

0.1~300mm/h 连续无级可调

炉管材质

高纯透明石英管

标准炉管内径

Φ20mm(可定制)

控温方式

7 英寸触摸屏 + 30 段可编程 PID 控温

控温精度

±1℃

加热元件

铁铬铝高温合金加热丝

腔体环境

高真空(10⁻³Pa/ 惰性保护气氛两用

整机功率

1.2kW

供电电源

AC220V/50Hz

**配置

急停按钮、超温断电保护、过热报警

冷却方式

双层炉体风冷循环冷却

整机外形

台式一体化紧凑型结构

 

豫公网安备 41019702002438号