产品分类
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- 气体分析仪
- 电池制备
- 超硬刀具焊接炉
- 环境模拟试验设备
- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 其他产品
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桌面型单靶磁控溅射镀膜... 本设备为单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备
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磁控溅射镀膜仪带振动样... 带振动样品台的三靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有三个靶位的实验室专用于处理粉末及颗粒样品的镀膜仪，设备配有两台直流电源...
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桌面型石英腔体单靶磁控... 本设备为桌面型单靶磁控镀膜仪。设备经过小型化设计，将设备外形限制在了桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电...
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桌面型偏置靶单靶磁控镀... 单靶磁控镀膜仪配有一个直流电源，可用于金属及其他导电材料的溅射。单靶磁控镀膜仪真空系统采用涡轮分子泵组，抽气速度快，极限...
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行星式单靶磁控镀膜仪 本设备为桌面型行星式单靶磁控镀膜仪，腔体下半部为不锈钢机构，上部为高纯石英，兼顾了真空性能和容纳复杂样品台的功能型。设备...
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桌面型靶下置型磁控镀膜... 本设备为桌面型单靶磁控镀膜仪。设备经过小型化设计，将设备外形限制在了桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电...
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倾斜样品台式单靶磁控镀... 本设备为倾斜样品台式单靶磁控镀膜仪，样品台与靶面的角度可调，可用于制作特定生长角度的薄膜。设备外形为桌面级别，大大减少了...
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桌面型不锈钢腔体双靶磁... 双靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备
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桌面型双靶直流磁控镀... 桌面型双靶直流磁控镀膜仪可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，尤其是实验室SEM样品...
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双靶DCRF磁控溅射镀... 双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)采用靶下置样品台在上方的布局。双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)两个靶位，直流...
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双靶DCRF磁控溅射... 双靶DCRF磁控溅射镀膜仪（往复样品台）配有一台直流电源，一台射频电源，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄...
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桌面型单靶磁控镀膜仪（... 本设备为桌面型单靶磁控镀膜仪。设备经过小型化设计，将设备外形限制在了桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个高性能...
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桌面型单靶磁控镀膜仪 本设备为桌面型单靶磁控镀膜仪。设备经过小型化设计，将设备外形限制在了桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电...
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UPS三靶磁控溅射镀膜... 三靶磁控溅射镀膜机是我公司自主研发的高性价比的磁控溅射镀膜设备。 它是标准化，模块化和可定制的。 该装置可用于制备单层...
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桌面型双靶磁控镀膜仪 CY-MSP210S-RFD桌面型双靶磁控镀膜仪。设备经过小型化设计，在保留高真空不锈钢腔体的同时，精简了其他机构，将设...
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往复样品台单靶磁控镀膜... 桌面型单靶磁控镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有小型化、标准化的特点。磁控靶有1英寸、2英寸可以...
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三靶磁控溅射镀膜仪双电... 三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英...
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带偏压双靶磁控镀膜仪 双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导...
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分体式单靶磁控镀膜仪 本设备为单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备...
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双靶磁控溅射镀膜仪 双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导...
