真空腔体 CY-MSV250 - 郑州成越科学仪器有限公司

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简单介绍：

该真空腔体非常适合物理沉积 (PVD)、化学沉积 (CVD)、等离子体化学沉积 (PECVD)、热喷涂、电子束溅射等多种镀膜

详情介绍：

通用真空腔体设计用于在低压至高真空 - 5·10-7 mm 下进行物理实验。该真空腔体非常适合物理沉积 (PVD)、化学沉积 (CVD)、等离子体化学沉积 (PECVD)、热喷涂、电子束溅射等多种镀膜。此外，在安装适当的设备时，真空柱还可用于进行固体物理领域的研究。

抽气和真空室升降过程有手动和自动两种控制方式。真空柱的压力和状态显示在液晶显示屏上。

真空室被制成帽的形式。腔室材料为不锈钢，箱体上焊接有矩形冷却通道。腔室法兰有许多支管，用于连接各种输入：旋转、电气、低温。真空柱配备有自动室提升机构。

腔体的技术特性。