产品名称：三靶向上磁控溅射镀膜仪

三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的高性价比磁控溅镀设备，具有标准化、模块化、定制化的特点。该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介电薄膜、光学薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等，三种靶材可以满足多层或多层涂层的需要。与同类设备相比，三靶磁控溅射镀膜仪不仅应用广泛，而且具有体积小、操作方便等优点。它是实验室制备材料薄膜的理想设备。

三靶磁控溅射镀膜仪技术参数：

项目		明细
产品型号		CY-MSH325X-DCDCRF-SS
供电电压		AC220V，50Hz
整机功率		6KW
系统真空		≦5×10-4Pa
样品台	外形尺寸	φ150mm
	加热温度	≦750℃
	控温精度	±1℃
	可调转速	≦20rpm
磁控靶枪	靶材尺寸	直径Φ50.8mm，厚度≦3mm
	冷却模式	循环水冷
	水流大小	不小于10L/Min
	靶枪数量	3
真空腔体	腔体尺寸	直径φ325mm，高度600mm
	腔体材质	SUU304不锈钢
	观察窗口	直径φ100mm
	开启方式	前面开启
气体控制	1路质量流量计用于控制Ar流量，量程为:200SCCM
真空系统	配分子泵系统1套，气体抽速600L/S
膜厚测量	可选配石英晶体膜厚仪，分辨率0.10 Å
溅射电源	直流电源功率500W*2，射频电源功率300Ｗ
控制系统	CYKY自研专业级控制系统
真空计	电阻规真空计
设备尺寸	1090mm×900mm×1250mm
设备重量	350kg