等离子溅射蒸发二合一镀膜仪 - 郑州成越科学仪器有限公司

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产品名称：等离子溅射蒸发二合一镀膜仪
产品型号：
产品厂商：成越科仪
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简单介绍：

CY-EVS180G-LV二合一镀膜仪，可用于电子产品、玻璃、陶瓷样品、金属等样品的镀膜。尤其适合实验室SEM（扫描电镜）的样品制备。设备主要由石英真空室、等离子溅射靶，蒸发镀膜装置，放置样品的样品台，真空泵机组、真空测量规管，进气系统和控制系统组成。设备主机采用触摸显示屏操作，温控表检测。其数字化参数界面和自动化操作方式为用户提供了优良的研发平台。真空室采用上中下结构，样品台与靶的距离灵活可调。设备真空获得系统采用上等双极旋片泵。具有体积小，噪音小，无油污污染等优点。真空腔体采用石英加工而成，呈现圆柱结构，外形美观，大方。主要密封法兰采用 KF 系列高真空密封法兰。真空腔体各接口均采用橡胶密封圈密封，真空性能优良，能有效镀膜质量。

详情介绍：

本产品为二合一镀膜仪，可用于电子产品、玻璃、陶瓷样品、金属等样品的镀膜。尤其适合实验室SEM（扫描电镜）的样品制备。设备主要由石英真空室、等离子溅射靶，蒸发镀膜装置，放置样品的样品台，真空泵机组、真空测量规管，进气系统和控制系统组成。
设备主机采用触摸显示屏操作，温控表检测。其数字化参数界面和自动化操作方式为用户提供了优良的研发平台。真空室采用上中下结构，样品台与靶的距离灵活可调。
设备真空获得系统采用上等双极旋片泵。具有体积小，噪音小，无油污污染等优点。
真空腔体采用石英加工而成，呈现圆柱结构，外形美观，大方。主要密封法兰采用 KF 系列高真空密封法兰。真空腔体各接口均采用橡胶密封圈密封，真空性能优良，能有效镀膜质量。
技术参数：

样品台	φ80mm	至蒸发源间距
样品台	20mm~50mm可调	φ80mm
直流溅射头	数量	2” x1
蒸发系统	蒸发源	钨丝篮
	*高温度	1700℃
	热电偶	S型热电偶
真空腔体	腔体尺寸	φ180mm X 150mm
	观察窗口	全向透明
	腔体材料	高纯石英
	开启方式	顶盖拆卸式
真空系统	机械泵	GHD-031B
	抽气接口	KF16
	真空测量	电阻规
	排气接口	KF16
	极限真空	10E-1Pa
	供电电源	AC;220V 50/60Hz
	抽气速率	旋片泵：4L/S
溅射电源配置	数量	直流电源 x1
溅射电源配置	*大输出功率	150w
其他	供电电压	AC220V,50Hz
	整机尺寸	500 X 350 X 400mm
	整机重量	15kg
	整机功率	1.5kw

产品名称：等离子溅射蒸发二合一镀膜仪