- 磁控溅射镀膜仪
- 培育钻石
- 热蒸发镀膜仪
- 涂布机
- 可编程匀胶机
- PECVD气相沉积系统
- 二合一镀膜仪
- 放电等离子烧结炉
- 静电纺丝
- 等离子镀膜仪
- 热解喷涂
- 电子束,激光镀膜仪
- 等离子清洗机
- CVD气相沉积系统
- 多弧离子镀膜仪
- 金刚石切割机
- 真空管式炉
- 立式管式炉
- 晶体生长炉
- 旋转管式炉
- 1200管式炉
- 高温真空炉
- 氧化锆烧结炉
- 高温箱式炉
- 箱式气氛炉
- 高温高压炉
- 快速退火炉
- 石墨烯制备
- 高温熔炼炉
- 高性能真空泵
- 质量流量计
- 真空法兰
- 二硫化钼制备
- 混料机设备
- 真空手套箱
- 粉末压片机
- 真空热压机
- 区域提纯炉
- 微波烧结炉
- UV光固机
- 注射泵
- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 气体分析仪
- 提拉涂膜机
- 电池制备
- 超硬刀具焊接炉
- 环境模拟试验设备
- 其他产品

高真空蒸发镀膜仪,钨丝篮(或钨舟)用作蒸发源,并且样品台和蒸发源之间的距离是可调的。 该仪器可以稳定地蒸发金属和某些有机物。 采用高真空不锈钢腔体,密封性能好,真空性能好。 该腔室配有观察窗,因此可以看到涂层过程。 采用分子泵系统的**真空10E-5Pa,可有效提高涂层质量,并能满足大多数蒸发涂层实验所需的真空环境.
高真空热蒸发镀膜仪用途:
本仪器适用于蒸发涂覆大多数金属和某些有机材料薄膜。
高真空热蒸发镀膜仪技术参数:
输入电源 |
AC 220V,单相,50Hz |
蒸发电流 |
100A |
电极电压 |
10V |
蒸发源 |
数量:2 |
蒸发器挡板 |
是 |
样品架 |
顶部设置 直径: φ65 mm 转速: 0-20 rpm 样品架和蒸发源之间的距离可调 |
真空室 |
内壁处理:电解抛光 箱体尺寸:〜φ180mm×H210mm 腔体材料:304不锈钢 开启方式:顶开 |
温度测量 |
B型热电偶 |
显示屏 |
7英寸触摸屏 |
电流 |
调节触摸屏设置,范围0〜100A |
真空度 |
所需真空度可以根据需要选择旋片泵或分子泵组。 (附加费用) |
提取接口 |
KF25 |
入口接口 |
直径6mm圆孔微调阀 |
膜厚监测仪 |
精度: 0.1Ã 测量速度: 100mS-1S 可调 测量范围: 500 000Ã (铝) 标准传感器晶体: 6MHz |