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该设备以电子束蒸发方式镀膜设备，主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，微纳器件微加工，电镜样品预处理等，尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜.
电子束蒸发镀膜仪技术参数：
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产品名称 |
电子束蒸发镀膜仪 |
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产品型号 |
CY-EBH500-SS |
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样品台 |
外形尺寸 |
<150mm，样品台可旋转 |
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可调温度 |
≦500℃ |
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电子枪 |
新型电子枪，6孔坩埚 |
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加热灯 |
4只卤素加热灯用于除气，1个氖灯用于照明 |
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真空腔体 |
腔体尺寸 |
Φ500*H500mm |
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观察窗口 |
直径φ100mm |
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腔体材质 |
304不锈钢 |
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开启方式 |
前开门式 |
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膜厚测量 |
采用SQM160膜厚仪进行监控，涂层厚度不均匀度小于6%。 |
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真空系统 |
前级泵 |
双极旋片泵，气体抽速1.1L/S |
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次级泵 |
涡轮分子泵,气体抽速600L/S |
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真空测量 |
复合真空计(电离规+电阻规) |
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系统真空 |
5×10-5Pa |
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水冷系统 |
水压<2.5bar 水压监测 |
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加热灯 |
4只卤素加热灯用于除气，1个氖灯用于照明 |
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电极接口 |
带2路金属蒸发电极接口 |
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控制系统 |
CYKY自研专业级控制器 |
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其他参数 |
供电电源 |
AC380V,50Hz |
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整机尺寸 |
1000mm×800mm×1500mm |
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整机功率 |
20KW |
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整机重量 |
350kg |
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