产品详情
  • 产品名称:带手套箱三源蒸发镀膜仪

  • 产品型号:CY-EVH400-III-HHH-SS-STX
  • 产品厂商:成越科仪
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简单介绍:
镀膜设备以金属/有机源蒸发为主体,适用于实验室制备金属单质、氧化物、介电质、半导体膜等,也可用作教学及生产线前期工艺试验等
详情介绍:

一、设备性能:

镀膜设备以金属/有机源蒸发为主体,适用于实验室制备金属单质、氧化物、介电质、半导体膜等,也可用作教学及生产线前期工艺试验等,整套设备操作简便,综合功能多,扩展空间大,适合及满足大专院校的教学与科研工作。

二、设备基本结构:

镀膜设备由真空室腔体,金属/有机源系统,样品台系统,真空泵机组,膜厚检测系统,设备机架,电控系统组成,真空室前门可与手套箱对接,采用一体化的设计方案,整套设备结构紧凑、布局简洁,避免实验设备外观凌乱的现象。

三、设备技术指标:

产品名称

带手套箱三源蒸发镀膜仪

产品型号

CY-EVH400-III-HHH-SS-STX

真空室腔体

外形

上等 304 不锈钢 D 形真空室腔体 1 套,真空室内部尺寸 D400*480mm,前后双开门,后门采用铰链式方门,方便清洗真空腔体,真空室内部调试,维修以及取放物品,前门采用横拉方门,前后门各配 DN100 视窗 1 套;

底部

金属源接口 2 套,有机源接口 4 套, 复合分子泵接口 1 套,CF25照明接口 2 套以及膜厚探头接口 3 套;

顶部

样品台接口 1 套,电动挡板接口 1 套,高真空气动挡板阀接口 1

左侧

超高真空气动挡板阀接口 1

金属/有机源系统

金属蒸发源

金属蒸发源 2 :水冷铜电极 2 组,兼容蒸发舟(钨、钼和钽舟)和螺旋丝,配气动挡板,1KW 直流恒流电源 1 台(数字显示),电流调整精度 1A(微调),功率满足常见的金属以及金属氧化物的蒸镀;

有机蒸发源 4

有机蒸发源 4 :4CC4ml) 石英舟,温控电源 2 台(温控表显示精度 0.1℃),温度区间:室温-500℃(控温精度±1℃),配气动挡板;

隔板

蒸发源相互独立,隔板分隔,避免交叉污

样品台系统

基片旋转

转速 030 转/分连续可调

基片升降

电动升降,衬底与蒸发源间距 200-300mm 通过触摸屏连续可调;

样品台

圆形托盘 1 套,一次可放置820×20mm 基片

基片挡板

电动挡板

真空泵机组

1) 600L/s分子泵 1 台;

2) 8L/s双级泵 1

3) CF150 气动超高真空插板阀 1 台;

4) CF40 超高真空气动挡板阀 1 台;

5) KF16 高真空气动挡板阀 1 台;

6) KF40 高真空气动挡板阀 1 台;

7) KF40 真空电磁充气阀 1 台;

8) KF40 泵阀连接软管 2 套,KF40 三通 1 套;
9) ZDF-5227 数显真空计 1 台(测量范围:1×1051×10-5Pa)。

膜厚检测系统

膜厚仪

三通道石英晶振膜厚监测仪 1 套;

膜厚探头

CF35 水冷膜厚探头 3

设备机架

1) 40 碳钢方管焊接机架 1 套,表面喷塑;

2) 万向轮 4 件,移动调整;

3) M16 地脚 4 件,锁紧定位

电控系统

金属源蒸发源气动挡板

2

金属蒸发源电源1kw

1

有机源蒸发源气动挡板

4

有机蒸发源电源

2套(12

烘烤照明电源

1

样品台电动挡板

1

总控制电源

1

PLC 控制

配触摸屏

手套箱

腔体尺寸

L1200* W750* H900mm

手套

3

大过渡舱

内径360mm, 600mm

小过渡舱

内径150mm, 300mm

其他技术参数

1) 缺相保护、误操作保护,联动互锁以及一键真空启停等功能;

2) 供电:~220V 两相供电系统(峰值 3KW);

3) 供水:小型冷水机,冷却水温度 5℃~35℃,工作环境温度:10℃~40℃;

4) 供气:小型无油静音气泵,提供 0.2-0.3MPa 气压,驱动气动阀门;

5) 极限真空:优于 6×10-5Pa,大气至 6×10-4Pa 时间小于 35 分钟(充干燥氮气),关机

12 小时真空度≤10Pa


豫公网安备 41019702002438号