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一、产品简介
桌面方形腔体蒸发镀膜仪是郑州成越科学仪器有限公司研制的一款小型化真空镀膜设备。设备采用立式结构,上部为方形真空腔体,配备圆形观察窗、金属管路接口与侧边旋钮,下部机身集成触控显示屏及电气控制系统,整机紧凑、布局清晰,适用于实验室小批量镀膜制备。
该设备以真空蒸发镀膜为基本工艺,可在真空环境下将镀膜材料加热蒸发并沉积到基片表面,形成功能薄膜。整机具备结构紧凑、操作直观、清洁维护方便等特点,是材料科学、光学、电子与薄膜研究领域常用的基础镀膜平台。
二、应用领域
桌面方形腔体蒸发镀膜仪适用于多种薄膜制备与镀膜工艺研究,主要包括:
· 光学薄膜:增透膜、反射膜、滤光片等光学功能膜的制备与工艺验证;
· 金属薄膜:金、银、铝、铜等金属膜层的真空蒸发沉积;
· 半导体与电子器件:电极膜、导电膜及电子器件表面功能层的制备;
· 科研教学:高校与科研院所的材料、物理、光学等专业的薄膜制备实验与教学演示;
· 医疗器械与装饰镀膜:小批量工件表面功能性或装饰性镀层的制备。
三、核心优势(特点)
设备针对实验室桌面化应用场景优化设计,具有以下核心优势:
· 结构紧凑,节省空间:方形腔体立式布局,整机体积小,可直接放置于实验台使用;
· 操作直观便捷:配备彩色触控显示屏,工艺参数设置与运行状态显示清晰,操作门槛低;
· 成膜均匀可靠:方形腔体结构配合优化的蒸发源与基片布局,保证膜厚分布均匀;
· 观察实时清晰:大直径圆形观察窗便于实时监控镀膜过程,及时掌握沉积状态;
· 清洁维护方便:腔体结构规整,取放基片与清洁维护简单,利于实验室频繁使用;
· 真空系统稳定:配备可靠的真空获得与测量系统,重复性好,适合批量小样实验。
四、技术参数
以下为桌面型方形腔体蒸发镀膜仪的参考技术规格,具体参数请以实际机型铭牌或出厂技术文件为准。
产品名称
桌面型方形腔体蒸发镀膜仪
产品型号
CY-EVZ300-H-SS
腔体结构
方形腔体,不锈钢材质,立式布局
腔体尺寸(参考)
约 300 mm × 300 mm × 300 mm(按机型而定)
极限真空度(参考)
优于 5 × 10⁻⁴ Pa
工作真空度(参考)
1 × 10⁻³ Pa ~ 1 × 10⁻¹ Pa
蒸发源
电阻蒸发源(可配置钼舟/钨丝等),可选配多源
基片台
可旋转基片台,承片直径按机型配置
膜厚控制(选配)
可选配膜厚监控/晶振测厚系统
抽真空时间(参考)
约 10 ~ 30 分钟(视真空要求而定)
电源
AC 220V / 50Hz 或按机型配置
控制系统
彩色触控显示屏,PLC 程序控制
外形尺寸(参考)
按机型而定,紧凑型桌面式
注:表内标注"参考"的参数为桌面型方形腔体蒸发镀膜机的通用规格范围,具体数值及配置(蒸发源类型、腔体尺寸、膜厚控制等)以郑州成越科学仪器有限公司出厂配置和实际机型为准,如需定制可联系厂家。

