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  • 产品名称:三靶磁控溅射镀膜仪

  • 产品型号:CY-600-3HD
  • 产品厂商:成越科仪
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简单介绍:
产品简介:CY-600-3HD三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研制开发的一款性价比较高的磁控溅射镀膜仪,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。 
详情介绍:

产品简介:CY-600-3HD三靶磁控溅射仪是我公司自主研制开发的一款性价比较高的磁控溅射镀膜仪,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。 

产品型号

三靶磁控溅射仪CY-600-3HD

安装条件

 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)

2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地

3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套接头)及减压阀

4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上

5、通风装置:需要

主要特点

1、配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜(靶枪可以根据客户需要任意调换)。

2、可制备多种薄膜,应用广泛。

3、体积小,操作简便。

4、整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整购买需求。

5、可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。

技术参数

1、电源电压:220V   50Hz

2、总功率:2.5KW

3、极限真空度:<  E-6mbar(配合本公司设备使用可达到 E-5mbar)

4、工作温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)

5、靶枪数量:3个

6、靶枪冷却方式:水冷

7、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)

8、直流溅射功率:500W(可选)

9、射频溅射功率:300W/500W(可选)

10、载样台:Ø140mm

11、载样台转速:1rpm-20rpm内可调

12、保护气体:Ar、N2等惰性气体

13、进气气路:质量流量计控制2路进气,每个流量为100SCCM

产品规格

主机尺寸:500mm×560mm×660mm,整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg

标准配件

1

直流电源控制系统

2套

2

射频电源控制系统

1套

3

膜厚监测仪系统

1套

4

600分子泵

1台

5

工业级水冷

1台

6

冷却水管(Ø6mm)

4根

可选配件

金、铟、银、白金等各种靶材

 

豫公网安备 41019702002438号