产品名称：旋转粉末磁控溅射镀膜仪

旋转粉末磁控溅射镀膜仪是基于磁控溅射技术的**表面处理设备，通过动态旋转基片或靶材的设计，结合粉末靶材的溅射特性，实现复杂形状基体表面均匀薄膜的沉积。其核心模块包括真空系统（机械泵+分子泵）、溅射系统（旋转靶材、磁场控制装置）及气体控制系统（氩气**流量调节）。该设备特别适用于多材料复合镀层和粉末材料的薄膜制备，可精准调控薄膜成分与结构。

二、功能特点

‌1.多材料兼容性‌

支持金属（铜、钛）、合金、氧化物、陶瓷等多种粉末靶材的溅射，满足不同功能薄膜的制备需求。

采用旋转靶材设计，减少靶材局部损耗，延长使用寿命，同时提升材料利用率（达80%以上）。

‌2.高均匀性镀膜‌

通过基片旋转（转速可调）与磁场协同控制，确保复杂曲面或异形基片表面膜厚均匀性（误差≤±5%）。

动态调节气体压力（0.1–10 Pa）和溅射功率（100–5000 W），优化薄膜致密度与结合强度。

‌3.工艺灵活性‌

支持单层/多层复合镀层制备，可通过程序化控制实现梯度成分或纳米叠层结构。

可选配加热模块（*高800℃）或冷却系统，适配高温合金或热敏感基材的镀膜需求。

二、应用领域

‌1.半导体与电子器件‌

用于沉积导电层（铜、铝）、绝缘层（SiO₂、Al₂O₃）及阻挡层（TaN），提升芯片封装可靠性与信号传输效率。

‌2.光学与能源领域‌

制备太阳能电池透明导电膜（ITO）、光学抗反射涂层（MgF₂）及红外窗口功能膜。

在锂离子电池中沉积固态电解质薄膜，优化电极界面性能。

‌3.工业防护与装饰‌

航空发动机叶片表面镀覆CrN/TiAlN耐磨涂层，延长高温环境下的使用寿命。

珠宝、手表等**品表面装饰性镀膜（金、钛氮化物），提升美观度与耐腐蚀性。

‌4.生物医学与科研‌

在医用植入物表面沉积生物相容性涂层（羟基磷灰石、类金刚石碳膜），减少排异反应。

用于纳米磁性薄膜、超导材料等前沿领域的实验室研究.

旋转粉末磁控溅射镀膜仪技术参数：