桌面型铝合金腔体单靶磁控溅射镀膜仪 CY-MSZ200-I-DC-AL

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简单介绍：

桌面型铝合金腔体单靶磁控溅射镀膜仪是一种紧凑型镀膜设备，采用磁控溅射技术在基片表面沉积薄膜

详情介绍：

桌面型铝合金腔体单靶磁控溅射镀膜仪是一种紧凑型镀膜设备，采用磁控溅射技术在基片表面沉积薄膜。其核心特点包括：

铝合金真空腔体：轻量化设计，耐腐蚀性好，适合实验室或小规模生产环境。

单靶配置：支持单一靶材（如金属、合金或氧化物），结构简单，操作便捷。

磁控溅射技术：利用磁场约束等离子体，提高溅射效率，形成均匀、致密的薄膜。

桌面设计：体积小巧，适合科研院所、高校实验室等空间有限的场所。

应用领域：

该设备广泛用于材料科学、光学、电子等领域，具体包括：

光学薄膜：如增透膜、反射膜、滤光片等。

电子器件：半导体电极、导电薄膜（如ITO）、传感器涂层。

功能材料：耐磨涂层（如TiN）、防腐涂层、超硬薄膜（类金刚石）。

科研实验：新材料开发、薄膜性能测试、教学演示等。

磁控溅射镀膜仪技术参数：

产品名称：桌面型铝合金腔体单靶磁控溅射镀膜仪