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  • 产品名称:单靶磁控溅射镀膜仪

  • 产品型号:CY-600-1HD
  • 产品厂商:成越科仪
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简单介绍:
本单靶磁控溅射镀膜仪配有一套磁控靶、一套300W的RF溅射电源(或一套500W的直流溅射电源或一套100W的偏压电源)。单靶磁控溅射镀膜仪在镀膜时,可根据需要分别手工连接至直流溅射电源、偏压电源及RF溅射电源。还可根据客户需要配置可旋转样品台、加热型样品台、多功能样品台,整机性价比高,是制作各种金属(或非金属)薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空系统。我公司还可根据客户具体需要定制单靶磁控溅射镀膜仪。
详情介绍:

本单靶磁控溅射镀膜仪配有一套磁控靶、一套300W的RF溅射电源(或一套500W的直流溅射电源或一套100W的偏压电源)。镀膜时,可根据需要分别手工连接至直流溅射电源、偏压电源及RF溅射电源。还可根据客户需要配置可旋转样品台、加热型样品台、多功能样品台,整机性价比高,是制作各种金属(或非金属)薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空系统。
技术参数

1、输入电源:220VAC 50/60Hz

2、溅射电流:0-150 mA可调

3、整机功率:<2KW

4、输出电压:≦上限值1600VDC

5、溅射腔体:采用石英腔体,尺寸:166mm OD x 150mm ID x 290mm H

6、真空密封:采用O形密封圈密封

7、磁控靶:2英寸带水冷的磁控溅射头,也可根据需要选配1英寸磁控靶

8、样品台:直径50mm不锈钢样品台,样品台可旋转,旋转速率0-5 RPM ,并设计有手动操作的溅射挡板,样品台和靶头之间的距离可以调节,调节范围:30-80mm

9、配有靶头支架,可以在非溅射状态时放置溅射靶头

10、溅射面积:4英寸

11、真空系统:安装有KF25真空接口,数字真空压力表(Pa),此系统运行需要Ar气,并且气瓶上安装有减压阀(设备中不包含),可根据客户具体需要选配各种真空泵,按实际供货计费。 

12、进气:含一个控制进气的针阀和一个放气阀本设备接气需要安装减压阀(可在我公司选购减压阀)

13、靶材尺寸要求:Φ50mmx(0.1-2.5) mm(厚度),适合溅射Au,Ag,Cu,Al,Ti,等金属(可在我公司选购)对于溅射各种金属靶材,需要摸索蕞理想的溅射参数,下表是本公司实验所设置的参数

靶材种类

真空度(Pa

溅射电流(mA

时间(s

溅射次数

Au

31-33

28-30

100

1

Ag

31

28

100

1

14、有时为了达到理想的薄膜厚度,需要多次溅射镀膜。在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前用超声波清洗基材表面。

15、基材清洗方式

(1)丙酮超声清洗→异丙醇超声清洗去除油脂→吹氮气干燥→真空烘箱除去水分

(2)等离子清洗:可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物制造一个薄的缓冲层(5纳米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力此溅射镀膜机可以放入Ar或N2气体手套箱中溅射。

豫公网安备 41019702002438号