产品名称：磁控溅射镀膜仪带振动样品台

带振动样品台的三靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有三个靶位的实验室专用于处理粉末及颗粒样品的镀膜仪，设备配有两台直流电源，一台射频电源，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。

磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。

设备配有变频振动的震动型样品台，可以将放置在上面的粉末或者颗粒不规则的翻动，以确保在镀膜过程中所有的颗粒的表面能包覆上镀层，避免镀膜不匀的情况，是专为颗粒型样品所设计的PVD设备。

三靶磁控溅射镀膜仪技术参数：

项目		明细
供电电压		AC220V，50Hz
整机功率		4KW
溅射真空		DC0.3Pa RF:3Pa
载样台参数	尺寸	φ150mm
	振动方式	变频电机驱动齿轮
磁控溅射头参数	数量	斜置3个2”磁控溅射头 与垂直方向夹角15°
	冷却方式	水冷，所需流速10L/min
	水冷机规格	10L/min流速的循环水冷机
真空腔体	腔体尺寸	φ325mm X 400mm H
	腔体材料	不锈钢
	观察窗口	φ100mm
	开启方式	上顶开式，便于更换靶材
气体流量控制器		1路200sccm Ar；
真空泵		配有一套分子泵系统，抽速600L/S
膜厚仪		石英振动薄膜测厚仪一台，分辨率0.10 Å
溅射电源		直流电源2台，500W，适用于制备金属膜 射频电源1台，500W，适用于非金属镀膜
操作方式		一体机电脑操作
整机尺寸		1090mm X 900mm X 1250mm
整机重量		550kg