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本设备为带偏压的桌面型单靶磁控镀膜仪,可用于一般金属薄膜的制备。设备同时配有偏压电源,可以用来进行进行溅射前的等离子清洗和溅射过程中施加偏压。
本套配置采用石英真空腔体,镀膜过程全向可视,便于实验的观察记录,腔体设计开启方便,易于清理,十分适合实验室使用。同时设备配有旋转加热样品台,可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。整机采用模块化设计,操作逻辑简单,操作界面直观,利于上手。
单靶磁控镀膜仪技术参数:
产品名称 |
桌面型偏压单靶磁控溅射镀膜仪 |
产品型号 |
CY-MSP180G-1T-B (Bias偏压) |
安装条件 |
1、使用环境温度 25℃±15℃,湿度 55%Rh±10%Rh; 2、设备供电:AC220V,50Hz,必须有良好接地; 3、额定功率:1500w; 4、设备用气:设备腔室内需充注氩气清洗,需客户自备氩气,纯度 ≥99.99%; 5、摆放工作台尺寸要求 600mm×600mm×850mm,承重 50kg 以上; 6、摆放位置要求通风散热良好。 |
技术参数 |
1、 溅射电源:直流电源300W;*大输出电压600V,极限输出电流500mA 2、 偏压电源:输出电压<1000V,类型:高频脉冲直流电源 3、 磁控靶:2英寸平衡靶,配磁耦合挡板; 4、 磁控靶适用靶材: φ50mm x 3mm厚 5、 腔体尺寸:外径φ194mm ,内径186mm x 高230mm; 6、 腔体材质: 304不锈钢 7、 旋转加热样品台:转速1~20rpm 连续可调;加热温度*高500℃,升温速度推荐10℃/min,*高20℃/min。 8、 冷却方式:磁控靶及分子泵需要循环水冷机; 9、 水冷机:水箱容积9L,流速10L/min 10、 供气系统:质量流量计, 气体类型Ar气,流量1~30sccm(可定制); 11、 流量计精度:±1.5%量程 12、 真空腔体抽气接口为 KF40; 13、 进气接口为 1/4 英寸双卡套接头; 14、 显示屏为7英寸彩色触摸屏; 15、 可调节溅射电流,可设置溅射**电流值、**真空值; 16、 **保护:过流、真空过低自动切断溅射电流; 17、 极限真空:5E-4Pa(搭配分子泵); 18、 真空测量为电阻规真空计,其量程为:1~105Pa |
注意事项 |
1、磁控溅射工作真空较高,一般在2Pa之内,需要配分子泵使用。 2、为了达到较高的无氧环境,至少要用高纯惰性气体对真空腔体清洗 3 次。 3、磁控溅射对进气量比较敏感,需要使用质量流量计控制进气量 |
可选配件 |
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膜厚监测仪 |
1、膜厚分辨率:0.0136Å(铝) 2、膜厚准确度:±0.5%,取决于过程条件,特别是传感器的位置, 材料应力,温度和密度 3、测量速度:100ms-1s/次,可设置测量范围:500000Å(铝) 4、标准传感器晶体:6MHz 5、适用晶片频率:6MHz 适用晶片尺寸:Φ14mm 安装法兰:CF35 |
其他配件 |
1、CY-CZK103系列高性能分子泵组(含复合真空计,测量范围10-5Pa~105Pa); CY-GZK60系列小型分子泵组(含复合真空计,测量范围10-5Pa~102Pa) VRD-4双极旋片真空泵; 2、KF40真空波纹管;长度可选0.5m、1m、1.5m;KF40卡箍支架 3、膜厚仪晶振片; |