产品分类
- 磁控溅射镀膜仪
- 培育钻石
- 热蒸发镀膜仪
- 涂布机
- 可编程匀胶机
- PECVD气相沉积系统
- 二合一镀膜仪
- 放电等离子烧结炉
- 静电纺丝
- 等离子镀膜仪
- 热解喷涂
- 电子束,激光镀膜仪
- 等离子清洗机
- CVD气相沉积系统
- 多弧离子镀膜仪
- 金刚石切割机
- 真空管式炉
- 立式管式炉
- 晶体生长炉
- 旋转管式炉
- 1200管式炉
- 高温真空炉
- 氧化锆烧结炉
- 高温箱式炉
- 箱式气氛炉
- 高温高压炉
- 快速退火炉
- 石墨烯制备
- 高温熔炼炉
- 高性能真空泵
- 质量流量计
- 真空法兰
- 二硫化钼制备
- 混料机设备
- 真空手套箱
- 粉末压片机
- 真空热压机
- 区域提纯炉
- 微波烧结炉
- UV光固机
- 注射泵
- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 气体分析仪
- 提拉涂膜机
- 电池制备
- 超硬刀具焊接炉
- 环境模拟试验设备
- 其他产品

产品详情
简单介绍:
人造钻石是一种由直径10到30纳米的钻石结晶聚合而成的多结晶钻石,等离子增强化学气象沉积PECVD合成法制造,人造钻石主要用于制造切割工具等工业用途上,同样也被使用在珠宝首饰上
详情介绍:
人造钻石是一种由直径10到30纳米的钻石结晶聚合而成的多结晶钻石,等离子增强化学气象沉积PECVD合成法制造,人造钻石主要用于制造切割工具等工业用途上,同样也被使用在珠宝首饰上。
◆10 kW SAIREM微波发生器(开关电源)
◆2.45GHz磁控管微波频率
◆循环器和隔离器
◆自动操作的EH-tuning元件
等离子源
◆6"等离子源,激发频率2.45GHz
◆能够在低到高功率密度等离子体中工作
◆独特的高功率密度温度控制能力
◆气体从下侧进入腔室
◆偏置电极
基板支架
◆可更换基板支架:
◆冷却元件(约D75mm)
◆可更换支架板,便于清洁和维护
◆钼等离子接触件
◆生长过程中自动调整高度
小木屋
◆蛤壳式盖子,便于基板放置和清洁
◆水冷铝合金结构
气体管理系统
◆5条气体管线,包括5个质量流量控制器(根据要求添加)
◆MFC系统
◆压力控制器范围:100-300mbar
真空
◆涡轮分子泵+干式初级泵
CVD控制器
◆电脑控制器配方驱动操作
◆远程控制、检测、系统升级
◆基板摄像头(可选)
◆ 高温计范围:400-1700°C