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镀膜仪具有两路高精度质量流量计，客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路，以满足复杂的气体环境构建需求；仪器标配先进的涡轮分子泵组，极限真空可达1.0E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制，可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品，大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制，在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能，可以进一步提高您的实验效率。
双靶磁控溅射镀膜仪适用范围：
双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。双靶磁控溅射镀膜仪技术参数：
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产品名称 |
双靶磁控溅射仪 |
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溅射电源 |
安装有两个电源 直流（DC）电源：500W |
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真空腔体 |
真空腔体：300 mm Dia x 300 mm h，采用不锈钢制作 观察窗口： 100 mm diameter 腔体打开方式采用上顶开，使得换靶更加容易 |
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磁控溅射头 |
仪器中安装有 2 个磁控溅射头，而且都带有水冷夹层，可通入冷却水 对靶材降温 两个溅射头与直流电源相连接，主要溅射导电性靶材 |
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载样台 |
载样台尺寸：140mm dia.（*大可放置 4"的基底） 载样台可以旋转，其速度为：1 - 20 rpm （可调） 载样台*高可加热温度为 500℃，控温精度为+/- 1.0 °C |
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气体流量控制器 |
仪器内部安装有 2 个质量流量计 量程为：0-200sccm |
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真空泵 |
配有一套分子泵系统,采用一键式操作 80L/S |
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水冷系统 |
16L/min. |
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电压 |
220V 50HZ |
