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  • 产品名称:电子束蒸发镀膜仪

  • 产品型号:CY-EB
  • 产品厂商:成越科仪
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简单介绍:
电子束蒸发镀膜仪系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。电子束蒸发镀膜仪可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。
详情介绍:

电子束蒸发镀膜仪设备用途:

用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等,广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产。

电子束蒸发镀膜仪技术参数:

结构形式

真空室采用U型箱体前开门,后置抽气系统

真空室

500×500×600mm2

真空系统配置

复合分子泵、机械泵、闸板阀

极限压力

≤6. 67×10-5Pa (经烘烤除气后);

恢复真空时间

45分钟可达到6. 67×10-4Pa (系统短时间暴露大气并充干燥 氮气后

 

电子束

蒸发源

e型电子枪

阳极电压:6kv8kv;

数量(套)

1

坩埚

水冷式坩埚,四穴设计,每个容量11ml

功率

06 KW可调

电阻蒸发源 (可选

电压

510V

功率

电流300A*大输出功率3KW

数量

1套,可切换

水冷电极

3根,组成2个蒸发舟

工件架类型及尺寸

基片尺寸:可放置4”基片加热zui高温度800±1 ,基片可连续回转,转速5~60/ 基片与蒸发源之间距离300~350mm可调手动控制样品挡板组件1

气路系统

200SCCM质量流量控制器1

石英晶振膜厚控制仪

监测膜厚显示范围:0~99 u 9999A;

设备占地面积

主机

900×800mm2

电控柜

800×800mm2 (两个

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