电子束蒸发镀膜 - 郑州成越科学仪器有限公司

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产品名称：电子束蒸发镀膜
产品型号：
产品厂商：成越科仪
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简单介绍：

该设备以电子束蒸发方式镀膜设备，主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，微纳器件微加工，电镜样品预处理等，尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜。

详情介绍：

设备技术参数

使用条件

环境温度5℃～40℃ 电源：三相380 V,功率：≤20 KW，水压：≤2.5bar

真空室尺寸

蒸发室尺寸：φ500×H500(㎜)

电子枪

新型电子枪1套，6穴坩埚

样品转盘

样品尺寸：≤φ150mm，样品可旋转，也可上下升降调节样品到电子枪距离(样品托形状按用户要求设计),加热温度≤500℃

系统真空度

极限真空

经12～24小时烘烤，连续抽气≤5x10^-5Pa

抽气速率

从大气开始40分钟内真空度≤5x10^-4Pa

系统漏率

整机漏率≤1×10^-8Pa.L/s 停泵关机12小时后，测量真空室真空度≤10Pa

抽真空系统

FB1200分子泵+机械泵(TRP-36)系统，并设置旁路抽气

镀膜监测

采用SQM160膜厚仪进行监测

镀膜厚度

镀膜厚度的不均匀度≤6%

使用条件	环境温度5℃～40℃ 电源：三相380 V,功率：≤20 KW，水压：≤2.5bar
真空室尺寸	蒸发室尺寸：φ500×H500(㎜)
电子枪	新型电子枪1套，6穴坩埚
样品转盘	样品尺寸：≤φ150mm，样品可旋转，也可上下升降调节样品到电子枪距离(样品托形状按用户要求设计),加热温度≤500℃
系统真空度	极限真空	经12～24小时烘烤，连续抽气≤5x10^-5Pa
	抽气速率	从大气开始40分钟内真空度≤5x10^-4Pa
	系统漏率	整机漏率≤1×10^-8Pa.L/s 停泵关机12小时后，测量真空室真空度≤10Pa
抽真空系统	FB1200分子泵+机械泵(TRP-36)系统，并设置旁路抽气
镀膜监测	采用SQM160膜厚仪进行监测
镀膜厚度	镀膜厚度的不均匀度≤6%

产品名称：电子束蒸发镀膜