产品列表
  • 15KW 2000℃温... CY-IV216-15KW-Q是一款较大型高温感应加热、熔炼炉系统,带有完整的配件,包括一个15 KW感应加热器,铰接式...
  • 15KW 1700℃温... CY-IV150-15KW-Q是一款1700ºC温控感应加热/熔炼系统,带进料前级系统和熔炼搅拌装置。石英前级腔室可将各...
  • 1700℃程序控温感应... CY-IV150-15KW-Q是一款紧凑的温控型感应加热/熔炼系统,带有完整的配件。 整套感应系统包括7KW感应加热器,...
  • 换位自转等离子镀膜仪 本型号等离子溅射仪,采用二级溅射方式,广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验,本设备配备换位自转式样品台,用户可以在触控屏...
  • 三靶等离子溅射镀膜仪(... 本型号小型等离子溅射仪,采用二级溅射方式,广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验。采用低温等离子体溅射工艺,镀膜过程中无高...
  • 三靶等离子溅射镀膜仪(... 本型号小型等离子溅射仪,采用二级溅射方式,广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验。采用低温等离子体溅射工艺,镀膜过程中无高...
  • 三靶等离子溅射镀膜仪(... 本型号小型等离子溅射仪,采用二级溅射方式,广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验。采用低温等离子体溅射工艺,镀膜过程中无高...
  • 双靶等离子溅射镀膜仪(... 本型号小型等离子溅射仪,采用二级溅射方式,广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验。采用低温等离子体溅射工艺,镀膜过程中无高...
  • 双靶等离子溅射镀膜仪(... 本型号小型等离子溅射仪,采用二级溅射方式,广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验。采用低温等离子体溅射工艺,镀膜过程中无高...
  • 双靶等离子溅射镀膜仪(... 本型号小型等离子溅射仪,采用二级溅射方式,广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验。采用低温等离子体溅射工艺,镀膜过程中无高...
  • 单靶等离子溅射镀膜仪(... 本型号小型等离子溅射仪,采用二级溅射方式,广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验。采用低温等离子体溅射工艺,镀膜过程中无高...
  • 单靶等离子溅射镀膜仪(... 本型号小型等离子溅射仪,采用二级溅射方式,广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验。采用低温等离子体溅射工艺,镀膜过程中无高...
  • 单靶等离子溅射镀膜仪(... 本型号小型等离子溅射仪,采用二级溅射方式,广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验。采用低温等离子体溅射工艺,镀膜过程中无高...
  • 12寸聚四氟自动匀胶机 摆臂匀胶机旋涂仪是一种基于离心力原理的精密涂覆设备,广泛应用于半导体制造、光学涂层、微机电系统(MEMS)及材料科学研究...
  • 全自动加热旋涂仪匀胶机 可将液态或胶体材料涂覆于硅片、晶体、石英、陶瓷等基材形成薄膜,主要应用于光刻胶旋涂、生物培养基制备、聚合物薄膜的溶胶-凝...
  • 四喷头超声波匀胶机旋涂... 四喷头超声波匀胶机是一种面向未来的gaoduan微纳加工设备。它解决了传统匀胶技术在三维、异质集成和昂贵材料应用中的根本...
  • 全自动匀胶机旋涂仪 全自动匀胶机旋涂仪是一种基于离心力原理的精密涂覆设备,通过程序化控制基片旋转速度、加速度和时间,实现液体材料(如光刻胶、...
  • 光刻胶烤胶机 光刻胶烤胶机在半导体及相关领域的光刻工艺中,主要用于光刻胶的烘烤和固化,确保图案转移的**性和工艺稳定性
  • 8英寸晶圆烤胶机 8英寸晶圆烤胶机在半导体及相关领域的光刻工艺中,主要用于光刻胶的烘烤和固化,确保图案转移的**性和工艺稳定性
  • 12英寸聚四氟腔体防腐... 本产品为旋涂仪也称匀胶机,是利用高速旋转产生的离心力来涂覆膜料的设备。本型号采用工业级大功率伺服电机,可实现更好的稳定性...
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