产品分类
- 磁控溅射镀膜仪
- 热蒸发镀膜仪
- 高温熔炼炉
- 等离子镀膜仪
- 可编程匀胶机
- 涂布机
- 等离子清洗机
- 放电等离子烧结炉
- 静电纺丝
- 金刚石切割机
- 快速退火炉
- 晶体生长炉
- 真空管式炉
- 旋转管式炉
- PECVD气相沉积系统
- 热解喷涂
- 提拉涂膜机
- 二合一镀膜仪
- 多弧离子镀膜仪
- 电子束，激光镀膜仪
- CVD气相沉积系统
- 立式管式炉
- 1200管式炉
- 高温真空炉
- 氧化锆烧结炉
- 高温箱式炉
- 箱式气氛炉
- 高温高压炉
- 石墨烯制备
- 区域提纯炉
- 微波烧结炉
- 粉末压片机
- 真空手套箱
- 真空热压机
- 培育钻石
- 二硫化钼制备
- 高性能真空泵
- 质量流量计
- 真空法兰
- 混料机设备
- UV光固机
- 注射泵
- 气体分析仪
- 电池制备
- 超硬刀具焊接炉
- 环境模拟试验设备
- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 其他产品
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等离子溅射和蒸发二合一... 等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪配备了直流溅射靶和热蒸发组件，不但可以用于等离子溅射方式镀金属膜，也可以用蒸发的方式得到碳或...
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等离子溅射蒸发二合一镀... CY-EVS180G-LV二合一镀膜仪，可用于电子产品、玻璃、陶瓷样品、金属等样品的镀膜。尤其适合实验室SEM（扫描电镜...
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小型二合一镀膜仪 等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪配备了直流溅射靶和热蒸发组件，不但可以用于等离子溅射方式镀金属膜，也可以用蒸发的方式得到碳或...
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小型高真空二合一镀膜仪 等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪配备了直流溅射靶和热蒸发组件，不但可以用于等离子溅射方式镀金属膜，也可以用蒸发的方式得到碳或...
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等离子溅射和碳蒸发二合... 等离子溅射和碳蒸发二合一镀膜仪是一款二合一紧凑型涂层装置，配有双级旋转叶片真空泵，可将等离子溅射和蒸发集成到一台小型机器...
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多功能镀膜仪 多功能镀膜仪是我公司独立研发的新型产品，既可进行等离子溅射法镀膜，也可进行蒸发镀膜。这款多功能镀膜仪可以与分子泵或者旋片...
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高真空多弧离子镀膜仪 CY- MIOP500 为高真空多弧离子镀膜仪，制备多元非晶合金,制备金属化合物，如氧化物和氮化物薄膜（氧气或氮气氛围）...
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实验室多弧离子镀镀膜仪 实验室多弧离子镀镀膜仪是利用气体放电或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时，将蒸发物或反应物沉积...
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多弧离子镀膜仪 本设备为多弧离子镀膜设备。多弧离子镀是利用气体放电或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时，将蒸发...
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PLD脉冲激光溅射沉积... 该PLD脉冲激光溅射沉积设备系列设备主要用于生长光学晶体、铁电体、铁磁体、超导体和有机化合物薄膜材料，尤其适用于生长高熔...
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离子源电子束蒸发镀膜仪 该电子束蒸发方式镀膜仪，主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，微纳器件微加工，电镜样品预处理等，尤其...
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电子束蒸发镀膜 该设备以电子束蒸发方式镀膜设备，主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，微纳器件微加工，电镜样品预处理...
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小型粉末PVD包覆系统 小型粉末PVD包覆系统是一款小型粉末包覆系统，主要有2英寸磁控溅射头和振动样品台组成。小型粉末PVD包覆系统粉末在振动样...
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激光镀膜设备 激光镀膜设备系统由真空腔室（主溅射室、进样室）、样品传递机构、样品架、旋转靶台、真空排气、真空测量、电器控制、配气、计算...
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电子束蒸发镀膜仪 电子束蒸发镀膜仪系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安...
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ALD原子层沉积系统 原子层沉积（ALD）系统是一种用于在基板表面沉积超薄膜的精密设备，具有原子级别的厚度控制能力。ALD系统通常用于半导体制...
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派瑞林真空气相沉积 派瑞林真空气相沉积是一种专业的产品，用于在材料表面上制备薄膜。它采用了在真空环境中使用气相化学反应来沉积薄膜的先进过程。...
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迷你石墨烯CVD设备 迷你石墨烯CVD设备专为石墨烯生产设计配有高精度质量流量计以及薄膜真空规。迷你石墨烯CVD设备同时设备配有可燃气体检测装...
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1200℃高真空迷你C... 1200℃高真空迷你CVD设备核心是一款迷你管式炉，采用电阻丝加热。1200℃高真空迷你CVD设备包含一台三路浮子流量计...
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晶圆级大尺寸二硫化钼制... 晶圆级大尺寸二硫化钼制备CVD设备包括三温区管式炉，特殊设计的炉管及配套气路一组，晶圆级大尺寸二硫化钼制备CVD设备通过...
