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1200℃三温区3路浮... 1200℃三温区3路浮子供气高真空CVD系统由三温区管式炉、三路浮子流量计和高真空分子泵组组成。管式炉三个温区分别由精密...
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1200℃三温区3路浮... 1200℃三温区3路浮子供气低真空CVD系统由三温区管式炉、三路浮子流量计和双极旋片真空泵组成。管式炉三个温区分别由精密...
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1700℃两路浮子供气... 该管式炉可以用于抽真空和通气氛，所以又叫真空管式炉和气氛管式炉。炉管材质采用高纯氧化铝,*高可在1650℃的高温工作。为...
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1200℃三路供气低真... 1200℃三路供气低真空度旋转CVD系统采用高纯石英制作炉管。旋转装置为风冷法兰，摩擦传动，倾角（0-15°）任意可调。...
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1200℃单温区3路质... 1200℃单温区3路质量供气高真空CVD系统由单温区管式炉、三路质量流量计和高真空分子泵租组成。管式炉由精密控温仪表进行...
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1200℃单温区3路质... 1200℃单温区3路质量供气低真空CVD系统由单温区管式炉、三路浮子流量计和双极旋片真空泵组成。管式炉由精密控温仪表进行...
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1200℃单温区3路浮... 1200℃单温区3路浮子供气高真空CVD系统由单温区管式炉、三路浮子流量计和高真空分子泵组组成。管式炉由精密控温仪表进行...
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1200℃单温区3路浮... 1200℃单温区3路浮子供气低真空CVD系统由单温区管式炉、三路浮子流量计和双极旋片真空泵组成。管式炉由精密控温仪表进行...
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1200℃单温区三通道... 1200℃单温区三通道混气CVD系统由单温区管式炉和三路浮子流量计组成。1200℃单温区三通道混气CVD系统管式炉由精密...
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全自动CVD滑轨炉 全自动CVD滑轨炉系统由双温区滑轨炉、质子流量控制系统、真空系统三部分组成。双温区滑轨炉可移动并可实现快速升降温；四路质...
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1200℃三温区三通道... 1200℃三温区三通道混气CVD系统由三温区管式炉和三路浮子流量计组成。管式炉三个温区分别由精密控温仪表独立控温，通过调...
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1200℃三温区旋转自... 1200℃三温区旋转自动进出料CVD系统安装有投料器和收料罐。1200℃三温区旋转自动进出料CVD系统投料器可以以额定速...
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两通道CVD系统 本CVD系统带水冷法兰双路流量计并配有双极旋片泵、水冷机、数字真空计且该CVD系统可抽真空、通气氛用于各种CVD实验。
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1200℃三通道CVD... 该套CVD系统主要由：材料加热、真空获取、气体测量和等离子发生器四大部分构成。可以满足日常的大多数CVD实验和各种科研要...
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三温区1600 CVD... 该三温区1600 CVD系统主要用于真空烧结、气氛保护性烧结、真空镀膜 各种材料煅烧、需要温度梯度的各种CVD实验
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立式三温区管式炉 立式三温区管式炉适用于精密陶瓷等新材料的热处理
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超声波雾化立式单温区管... 超声波雾化立式单温区管式炉是一款多功能的合成系统，针对于合成各种纳米结构氧化物以及纳米材料的复合包覆工艺。此款仪器有三个...
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真空立式淬火炉 真空立式淬火炉主体为开启式立式管式炉，炉管上法兰装有吊钩及炉塞，可手动松开吊钩使悬挂的样品落下；下法兰与密封的液体容器通...
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高真空立式淬火炉 真空立式淬火炉CY-O1200-Φ100-400-V-T-CH是一款立式可开启真空管式淬火炉，配有一个密封的液体容器用于...
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立式流化床管式炉 该款立式流化床管式炉是一款流化床立式CVD系统，专门针对粉末实验。立式流化床管式炉仪器采用先进的PID智能控温，控温精度...
