- 磁控溅射镀膜仪
- 热蒸发镀膜仪
- 高温熔炼炉
- 等离子镀膜仪
- 可编程匀胶机
- 涂布机
- 等离子清洗机
- 放电等离子烧结炉
- 静电纺丝
- 金刚石切割机
- 快速退火炉
- 晶体生长炉
- 真空管式炉
- 旋转管式炉
- PECVD气相沉积系统
- 热解喷涂
- 提拉涂膜机
- 二合一镀膜仪
- 多弧离子镀膜仪
- 电子束,激光镀膜仪
- CVD气相沉积系统
- 立式管式炉
- 1200管式炉
- 高温真空炉
- 氧化锆烧结炉
- 高温箱式炉
- 箱式气氛炉
- 高温高压炉
- 石墨烯制备
- 区域提纯炉
- 微波烧结炉
- 粉末压片机
- 真空手套箱
- 真空热压机
- 培育钻石
- 二硫化钼制备
- 高性能真空泵
- 质量流量计
- 真空法兰
- 混料机设备
- UV光固机
- 注射泵
- 气体分析仪
- 电池制备
- 超硬刀具焊接炉
- 环境模拟试验设备
- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 其他产品

卷对卷式PECVD是一套卷对卷石墨烯制备管式炉系统,设备由卷对卷铜箔收放密封装置、1200°C三温区管式炉、
真空机组3部分组成。此设备可用于大面积、高质量石墨烯及其他二维材料的规模化生长。
卷对卷式PECVD应用范围:
计算机和智能手机屏幕,超轻、柔性的太阳能电池,以及新型的发光设备和其他薄膜电子产品领域。
卷对卷PECVD技术参数:
性能指标和基本配置 |
|
产品名称 |
卷对卷式PECVD |
产品型号 |
CY-OTF-1200X-III-PE300-RR |
1000W等离子源 |
● 输出功率:50-1000W*大可调±1% |
三路质子流量计控制系统 |
● 电压:AC220V/50Hz |
真空测量单元 |
● 型号:PCG-800 |
低真空机组(标配) |
● 由双旋机械泵、双层立式油雾过滤器(PE材质)、电阻真空计以及连接管道接头等组成 |
卷对卷铜箔收放密封装置 |
● 采用卷对卷收放卷机构进行铜箔的移动进出料,铜箔的移动速度为1-400mm/min可调;
● 收放卷机构别放置于管式炉两端真空腔体内,保证铜箔可在密封生长条件下进行运动,实现大规模制备
。 |
产品尺寸 |
大约2400*800*1250mm |
产品重量 |
大约720kg |
质量认证 |
电器元件可选择通过CE认证 |
保修期 |
一年保修,终身技术支持。 |