PE-HPCVD等离子增强物理化学气相沉积 CY-PE-HPCVD

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产品名称：PE-HPCVD等离子增强物理化学气相沉积
产品型号：CY-PE-HPCVD
产品厂商：成越科仪
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简单介绍：

PE-HPCVD等离子增强物理化学气相沉积由一台双温区管式炉，一套钨丝蒸发源，一套等离子发生装置以及一套质量流量计组成。PE-HPCVD等离子增强物理化学气相沉积适用于无机复合粉末的热处理及粉末表面的均匀包覆。

详情介绍：

PE-HPCVD等离子增强混合物理化学气相沉积系统

本产品是一款1200℃等离子增强混合物理化学气相沉积（PE-HPCVD)双温区旋转管式炉系统。该设备包括一台双温区管式炉，一套钨丝蒸发源，一套等离子发生装置以及一套质量流量计系统。其工作原理是通过蒸发源将反应物在进气端蒸发后通过气流载入管式炉温区内进行CVD反应，同时通过等离子增强促进反应的发生，适用于无机复合粉末的热处理及粉末表面的均匀包覆,如制备锂离子电池阴极粉末的导电涂层等。

双温区管式炉	产品型号	CY-O1200-50IIT
	炉管材质	高纯石英
	炉管直径	50mm
	炉管长度	1200mm
	炉膛长度	440mm
	加热区长	200mm+200mm
	工作温度	0～1100℃
	控温精度	±1℃
	控温模式	30段或50段程序控温
	显示模式	高清全彩LCD触控屏
	密封方式	304不锈钢真空法兰
	供电电源	AC:220V 50/60Hz 2.5kW
RF输出系统	功率范围	0~300W可调
	工作频率	13.56MHz+0.005%
	工作模式	连续输出
	匹配阻抗模式	能够匹配，起辉均匀布满炉管
	功率稳定度	≤2W
	正常工作反射功率	≤3W
	放大反射功率	≤70W
	谐波分量	≤-50dBc
	整机效率	≥70%
	功率因素	≥90%
	供电电压/频率	单相交流（187V~153V）频率50/60Hz
	控制模式	内控/PLC 模拟量/RS232/485通讯
	电源保护设置	DC过流保护，功放过温保护，反射功率保护
	冷却方式	强制风冷
	起辉长度	在Ar下射频电源与线圈配合起辉辉光能布满炉管
蒸发舟	工作温度	1300℃
	蒸发源	钨丝篮,可选配锥形氧化铝坩埚
	热电偶	S型热电偶
	工作电流	≤30A
	*大功率	500W
供气系统	流量计	四路质子流量计
	流量范围	MFC1量程：0~200sccm MFC2量程：0~200sccm MFC3量程：0~500sccm MFC4量程：0~500sccm 分别对应气体H2、 CH4、 N2、 Ar、
	测量精度	±1.5%F.S
	重复精度	±0.2%FS
	线性精度	±1%F.S.
	响应时间	≤4s
	工作压力	-0.15Mpa~0.15Mpa
	流量控制	液晶触摸屏控制，数字显示，每路气体含有针阀单独控制
	进气接口	可接1/4NPS或者外径6mm不锈钢管
	出气接口	可接1/4NPS或者外径6mm不锈钢管
	连接方式	双卡套接头
	工作温度	5~45℃
	气体预混	配气体预混装置
真空系统	产品型号	CY-GZK103-A
	分子泵	涡轮分子泵
	前极泵	双极旋片泵
	抽气速率	分子泵：600L/S	综合抽气性能：30分钟真空度可达：5×10E-3Pa
		旋片泵：1.1L/S
	极限真空	5×10E-4Pa
	抽气接口	KF40
	排气接口	KF16
	真空测量	复合真空计

产品名称：PE-HPCVD等离子增强物理化学气相沉积