- 磁控溅射镀膜仪
- 热蒸发镀膜仪
- 高温熔炼炉
- 等离子镀膜仪
- 可编程匀胶机
- 涂布机
- 等离子清洗机
- 放电等离子烧结炉
- 静电纺丝
- 金刚石切割机
- 快速退火炉
- 晶体生长炉
- 真空管式炉
- 旋转管式炉
- PECVD气相沉积系统
- 热解喷涂
- 提拉涂膜机
- 二合一镀膜仪
- 多弧离子镀膜仪
- 电子束,激光镀膜仪
- CVD气相沉积系统
- 立式管式炉
- 1200管式炉
- 高温真空炉
- 氧化锆烧结炉
- 高温箱式炉
- 箱式气氛炉
- 高温高压炉
- 石墨烯制备
- 区域提纯炉
- 微波烧结炉
- 粉末压片机
- 真空手套箱
- 真空热压机
- 培育钻石
- 二硫化钼制备
- 高性能真空泵
- 质量流量计
- 真空法兰
- 混料机设备
- UV光固机
- 注射泵
- 气体分析仪
- 电池制备
- 超硬刀具焊接炉
- 环境模拟试验设备
- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 其他产品

派瑞林真空气相沉积具有许多独特的特点和优势。首先,它能够在高温和低压条件下进行,从而确保薄膜的高质量和均匀性。其次,该产品具有较高的沉积速率,能够快速制备出所需的薄膜厚度。此外,派瑞林真空气相沉积还具有良好的可控性和可重复性,能够满足不同应用的需求。
我们的派瑞林真空气相沉积设备经过精心设计和制造,采用先进的技术和材料,以确保其稳定性和耐用性。我们的产品符合国际质量标准,并通过严格的质量控制体系进行检测和验证。
无论您是研究人员、工程师还是制造商,派瑞林真空气相沉积都将是您理想的选择。它能够为您提供高效、可靠的薄膜制备解决方案,帮助您实现材料表面的**控制和改善。我们的团队将全程提供专业的技术支持和售后服务,确保您能够充分发挥派瑞林真空气相沉积的优势。
派瑞林真空气相沉积具有一些优点,如沉积速度快、沉积均匀性好、可控性强等。然而,它也存在一些限制,如无法沉积大面积薄膜、需要高真空环境等。
总的来说,派瑞林真空气相沉积是一种重要的薄膜制备技术,可以在各种应用中提供高质量的薄膜材料
派瑞林真空气相沉积设备参数:
设备名称 |
派瑞林真空气相沉积设备 |
|
产品型号 |
CY-VPC-300 |
|
工作环境 |
电源:380V 五线 4 平方以上电缆,*大功率 l0KW |
|
环境温度:0-40℃ |
||
环境湿度:<90% |
||
尺寸 |
外观尺寸 1580*880*1550mm,占地面积约 1.5 平米, 安装时周围要留有50cm 以上的操作空间 |
|
加热部分 |
升华区 |
原料仓:φ69*200mm 容量:300g |
蒸发温度:室温 200℃ |
||
温度偏差:±2℃ |
||
裂解区 |
裂解温度:650-700℃ 温度稳定性: ±2℃ |
|
保温区 |
加热温度<300℃ |
|
控制系统 |
品牌 |
PLC 控制系统 |
程序 |
为自动沉积系统和手动沉积系统两部分 |
|
显示 |
显示屏尺寸:12 寸触摸彩屏 |
|
沉积系统 |
真空应体 |
1 个,尺寸φ300xH400 , 304 不锈钢 |
腔体容积 |
28L |
|
观察窗 |
1 个观察窗口,便于观察产品在沉积室的状态 |
|
旋转部分 |
马达转速可调 1-10 转/分 |
|
真空系统 |
真空泵 |
|
真空计 |
||
制冷系统 |
天寒TH-95-15-G(锅式),制冷温度≤90℃制冷启动后30分钟内可从室温到-70℃ |
|
偶联剂蒸发装置 |
提高派瑞林涂层与需要做涂层基材表面的结合力 |
|
设备主要部件 |
1、蒸发系统: 蒸发舱、电力n热装置、温度传感器 2、裂解系统:裂解舱 、电力日热装置、温度传感器 3、沉积系统:沉积舱 、真空传感器 、样品架 4、真空系统: 真空泵、真空计 5、冷凝系统:锅式冷阱 6、设备主机:设备外壳、控制电路、真空管道 7、石英管: 1根 |
|
可沉积原料类型 |
Parylene C、N、F、D |
|
设备特点 |
1、气化加热可移动,适合连续生产,如出现突然停电等意外情况可以随时移掉加热,保证产品**. 2、气化部分部分为透明玻璃管,可以随时查看料的情况,并可以保持低温生产,满足高要求镀膜. 3、气化可以移动,是派坷**设置,可以保证无**冲突,生产**。 4、腔体内部转架特殊设计可以有效减少坏点的数量. 5、可视化、人性化界面,操作简单易懂. 6、玻璃管,可以大大降低升温降温时间. 7、保温部分做优化,使得派瑞林不易在玻璃管内壁沉积,可以长期不用保养,减少保养时间 |