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主要功能及特点：
PECVD设备利用平板电容式辉光放电原理，将通入沉积室的工艺气体解离并产生等离子体，被解离的基团在等离子体中重新发生化学反应，由于等离子体存在，促进气体分子的分解、化合、激发和电离，促进反应活性基团的生成，从而降低沉积温度，在具有一定温度的基片上沉积形成薄膜。可根据工艺调节等离子体的密度和能量，控制薄膜的生长速率和微结构。
产品参数：
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产品名称 |
桌面式4英寸平板等离子体增强化学气相沉积PECVD |
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产品型号 |
CY-PECVD-240T-SS |
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供电电源 |
AC220V 50Hz |
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射频电源 |
信号频率 |
13.56MHz |
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功率输出范围 |
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工作腔体 |
加热温度 |
RT-500℃（还可选择600℃，800℃，1000℃等） |
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样品台尺寸 |
Φ100mm（兼容4英寸及以下样品） |
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样品台转速 |
1-20rpm 可调 |
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腔体材质 |
不锈钢 |
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观察窗 |
Φ60mm, 带挡板 |
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供气系统 |
通道数 |
3 （可根据需要选择其他通道数，其他气体种类，其他测量范围） |
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测量单位 |
质量流量计 |
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测量范围 |
A 通道: 0～200SCCM for O2 |
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B通道: 0～200SCCM for N2 |
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C通道: 0～200SCCM for Ar |
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真空系统 |
前级泵抽速 |
1.1L/s |
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分子泵抽速 |
60L/s |
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真空测量 |
复合真空计 |
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真空度 |
5.0*10-3Pa |
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水冷机 |
水流速 |
10L/min |
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冷却功率 |
50W/℃ |
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