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  • 产品名称:双靶磁控溅射镀膜仪

  • 产品型号:CY-600-2HD
  • 产品厂商:成越科仪
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简单介绍:
双靶磁控溅射镀膜仪CY-600-2HD为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。与同类设备相比,这款双靶磁控溅射镀膜仪不仅应用广泛,切体积小便于操作,是一款实验室制备薄膜的理想设备。
详情介绍:

产品特点

1:此款镀膜仪配置有两个靶枪:一个靶枪配套的是射频电源,用于非导电靶材的溅射镀膜;一个靶枪配套的是直流电源,用于导电材料的溅射镀膜

2:该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜,应用非常广泛。

3:该镀膜仪体积较小,且配备有触摸屏控制面板,操作方便。

产品参数

电源

220V 50Hz

功率

2000W(含真空泵)

极限真空度

10-6torr

工作温度

室温~500

靶枪数量

2个(可选配其他数量)

靶枪冷却方式

水冷

靶材尺寸

Φ50mm,厚度0.1~5mm

直流溅射功率

500W

射频溅射功率

300W/500W

样品台尺寸

140mm

样品台转速

1~20rpm可调

保护气体

ArN2等惰性气体

进气气路

2路气路,质子流量计控制,每个流量为100sccm

炉体尺寸

500×560×660mm

整机尺寸

1300×660×1200mm

重量

160kg

可选配件

AuInAgPt

配件

直流电源控制系统1件;射频电源控制系统1件;

膜厚仪1套;分子泵1台;冷水机1台;冷却水管(φ6mm

靶材(不锈钢靶、陶瓷靶)

包装

三合板木质包装

豫公网安备 41019702002438号