产品名称：双靶磁控溅射镀膜仪

产品特点

1：此款镀膜仪配置有两个靶枪：一个靶枪配套的是射频电源，用于非导电靶材的溅射镀膜；一个靶枪配套的是直流电源，用于导电材料的溅射镀膜

2：该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜，应用非常广泛。

3：该镀膜仪体积较小，且配备有触摸屏控制面板，操作方便。

产品参数

电源	220V 50Hz
功率	2000W(含真空泵）
极限真空度	10-6torr
工作温度	室温~500℃
靶枪数量	2个（可选配其他数量）
靶枪冷却方式	水冷
靶材尺寸	Φ50mm，厚度0.1~5mm
直流溅射功率	500W
射频溅射功率	300W/500W
样品台尺寸	140mm
样品台转速	1~20rpm可调
保护气体	Ar、N2等惰性气体
进气气路	2路气路，质子流量计控制，每个流量为100sccm
炉体尺寸	500×560×660mm
整机尺寸	1300×660×1200mm
重量	160kg
可选配件	Au、In、Ag、Pt等
配件	直流电源控制系统1件；射频电源控制系统1件； 膜厚仪1套；分子泵1台；冷水机1台；冷却水管（φ6mm） 靶材（不锈钢靶、陶瓷靶）
包装	三合板木质包装