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本设备为双靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。
本套配置采用高真空不锈钢腔体，腔体设置带挡板的石英观察窗，便于实验的观察记录；腔体设计真空性能**，造型小巧，十分适合实验室使用。同时设备配有旋转加热样品台，可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。整机采用模块化设计，操作逻辑简单，操作界面直观，利于上手。
双靶磁控镀膜仪技术参数：
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产品名称 |
桌面型不锈钢腔体双靶磁控溅射镀膜仪 |
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产品型号 |
CY-MSZ273-II-DC-SS |
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样品台 |
外形尺寸 |
φ100mm |
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可调转速 |
≦20rpm |
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磁控靶枪 |
配两支两英寸磁控靶，靶材尺寸:直径50.8mm，厚度≦3mm |
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真空腔体 |
腔体尺寸 |
φ273mm X 280mm |
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观察窗口 |
前置式 |
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腔体材料 |
304不锈钢 |
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开启方式 |
上盖开启及前开门 |
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真空系统 |
前级泵 |
低噪音双极旋片泵 |
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分子泵 |
低噪音大抽速涡轮分子泵（选配） |
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真空测量 |
复合真空计 |
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抽气接口 |
KF16 |
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排气接口 |
KF16 |
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溅射真空 |
DC:0.3Pa |
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供电电源 |
AC 220V 50/60Hz |
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抽气速率 |
前级泵抽速1.1L/s |
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电源配置 |
电源数量 |
直流电源一套 |
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输出功率 |
直流电源500W |
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其他参数 |
供电电压 |
AC220V,50Hz |
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整机功率 |
2kW |
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整机尺寸 |
440mm X 600mm X750mm |
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