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  • 产品名称:3靶紧凑型磁控溅射镀膜仪

  • 产品型号:CY-3RF
  • 产品厂商:成越科仪
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简单介绍:
3靶紧凑型磁控溅射镀膜仪是一种三头1"射频等离子体磁控溅射系统,设计用于非金属薄膜涂层,主要用于多层氧化物薄膜。3靶紧凑型磁控溅射镀膜仪是研究新一代氧化薄膜*具成本效益的涂膜机。可根据金属薄膜沉积要求选择直流磁控溅射,可配置3个直流、1个射频/ 2个直流和2个射频/ 1个直流溅射头。
详情介绍:

3靶紧凑型磁控溅射镀膜仪应用领域:

这款紧凑型3靶磁控溅射镀膜机专为在氧化物单晶基板上涂覆氧化物薄膜而设计,通常不需要高真空设置。

3靶紧凑型磁控溅射镀膜仪技术规格:

输入功率

单相220 VAC, 50 / 60 Hz

1000 W (包括真空泵和水冷机组)

如果电压为110 V,可以在CYKY订购1500 W变压器

电源

包括13.5 MHz100 W带手动匹配的RF发生器并连接到溅射头。

负载范围:0 - 80Ω可调,调节范围:-200j - 200j可调。

可旋转开关可一次激活一个溅射头。溅射头可以在等离子体中切换(在多层工艺期间不会破坏真空和等离子体)。

使用直流电源,涂膜机可轻松修改为1“直流溅射源,用于金属薄膜沉积,可实现三个直流,一个射频/两个直流和两个射频/一个直流溅射头配置 

磁控溅射头

包括三个带水冷套的1“磁控溅射头,并通过快速夹具插入石英腔。

法兰上安装了一个手动操作的挡板。

包括一台10 L / min数控循环冷水机组,用于冷却溅射头。

溅射靶

  • 靶尺寸要求:zui大1’’直径×1/8’’厚度
  • 溅射距离范围:50-80 mm可调
  • 溅射角度范围:0-25°可调
  • 包括1’’直径Cu靶和Al2O3靶用于演示测试
  • 可根据要求提供各种氧化物1“溅射靶,需额外付费
  • 对于靶的粘合,包括1 mm2 mm铜背板

真空室

  • 真空室:外径256 mm×238 mm内径×276 mm高度,由高纯度石英制成
  • 密封法兰:直径274 mm。由铝制成,带有高温硅胶O形圈
  • 包括不锈钢屏蔽罩,用于100%屏蔽来自腔室的RF辐射
  • *大真空度:1.0E-5 Torr,可选配涡轮泵和腔室烘烤 

样品架

  • 样品架是一个可旋转且可加热的平台,由带有不锈钢盖的陶瓷加热器制成
  • 样品架尺寸:50 mm直径2”晶圆max
  • 转速:1-10 rpm可调,均匀涂层
  • 支架温度可在zui高温度范围内调节至600600可达5分钟; 500可达2小时),精度为+/- 1.0,通过数字温度控制器

真空泵

  • 内置KF40真空端口,用于连接真空泵。
  • 真空度:1.0E-2托,附带双级机械泵。
  • 1.0E-5托可选配涡轮泵 

尺寸

540 mm L×540 mm W×1000 mm H

净重

60 kg

售后服务

货物发出后,CYKY提供一年免费售后服务,服务方式限于电话指导、视频指导、邮件指导、配件邮寄等远程技术支持。如需要派人现场服务,客户需要支付服务人员差旅费和出差期间的工资。

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