产品名称：3靶紧凑型磁控溅射镀膜仪

3靶紧凑型磁控溅射镀膜仪应用领域：

这款紧凑型3靶磁控溅射镀膜机专为在氧化物单晶基板上涂覆氧化物薄膜而设计，通常不需要高真空设置。

3靶紧凑型磁控溅射镀膜仪技术规格：

输入功率	单相220 VAC, 50 / 60 Hz 1000 W (包括真空泵和水冷机组) 如果电压为110 V,可以在CYKY订购1500 W变压器
电源	包括13.5 MHz，100 W带手动匹配的RF发生器并连接到溅射头。 负载范围：0 - 80Ω可调，调节范围：-200j - 200j可调。 可旋转开关可一次激活一个溅射头。溅射头可以“在等离子体中”切换（在多层工艺期间不会破坏真空和等离子体）。 使用直流电源，涂膜机可轻松修改为1“直流溅射源，用于金属薄膜沉积，可实现三个直流，一个射频/两个直流和两个射频/一个直流溅射头配置 。
磁控溅射头	包括三个带水冷套的1“磁控溅射头，并通过快速夹具插入石英腔。 法兰上安装了一个手动操作的挡板。 包括一台10 L / min数控循环冷水机组，用于冷却溅射头。
溅射靶	靶尺寸要求：zui大1’’直径×1/8’’厚度 溅射距离范围：50-80 mm可调 溅射角度范围：0-25°可调 包括1’’直径Cu靶和Al2O3靶用于演示测试 可根据要求提供各种氧化物1“溅射靶，需额外付费 对于靶的粘合，包括1 mm和2 mm铜背板
真空室	真空室：外径256 mm×238 mm内径×276 mm高度，由高纯度石英制成 密封法兰：直径274 mm。由铝制成，带有高温硅胶O形圈 包括不锈钢屏蔽罩，用于100％屏蔽来自腔室的RF辐射 *大真空度：1.0E-5 Torr，可选配涡轮泵和腔室烘烤
样品架	样品架是一个可旋转且可加热的平台，由带有不锈钢盖的陶瓷加热器制成 样品架尺寸：50 mm直径2”晶圆max 转速：1-10 rpm可调，均匀涂层 支架温度可在zui高温度范围内调节至600℃（600℃可达5分钟; 500℃可达2小时），精度为+/- 1.0℃，通过数字温度控制器
真空泵	内置KF40真空端口，用于连接真空泵。 真空度：1.0E-2托，附带双级机械泵。 1.0E-5托可选配涡轮泵 。
尺寸	540 mm L×540 mm W×1000 mm H
净重	60 kg
售后服务	货物发出后，CYKY提供一年免费售后服务，服务方式限于电话指导、视频指导、邮件指导、配件邮寄等远程技术支持。如需要派人现场服务，客户需要支付服务人员差旅费和出差期间的工资。

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