产品详情
所在位置: 首页> 产品目录> 镀膜仪>
  • 产品名称:双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪

  • 产品型号:CY-HV-2H
  • 产品厂商:成越科仪
  • 产品文档:
你添加了1件商品 查看购物车
简单介绍:
双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪紧凑型磁控溅射系统,具有双靶2"目标源,例如,一个直流源用于涂覆金属薄膜,另一个射频源用于涂覆非金属材料。双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪设计用于涂覆单层或多层薄膜,适用于各种材料,如合金、铁电、半导体、陶瓷、电介质、光学、聚四氟乙烯等。
详情介绍:

双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪主要特点:

1、配置两个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜,应用广泛。
3、体积小,操作简便。

双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪技术规格:

输入功率

单相220 VAC 50 / 60 Hz, 2000 W (包括真空泵和冷水机组)

电源

两个溅射电源集成在一个控制箱中。

  • 直流电源:用于涂覆金属材料的500 W功率。
  • 射频电源:300 W功率,13.56 MHz频率,用于涂覆非导电材料。

磁控溅射头

包括两个带有水冷套和百叶窗的2“磁控溅射头。

此产品页面中还提供了一个溅射头型号(在产品选项中)。

  • 一个连接到 直流电源以涂覆金属材料
  • 另一个连接到用于非导电材料的RF源
  • 靶尺寸要求:2“直径
  • 厚度范围:0.1 - 5 mm,适用于金属和非导电目标(包括背板)
  • 包括一个不锈钢靶目标和一个研究级Al2O3靶 用于样品测试

定制涂膜机:两个不带射频的直流头; 两个没有DC的RF头; 可根据要求提供3个RF头。

真空室

  • 真空室:直径300毫米×300 mm高度,由不锈钢制成
  • 视口:两片100毫米直径玻璃。一个固定;一个可拆卸清洁和更换
  • 带气动电源杆的铰接式盖子可轻松更换靶

样品台

  • 样品架是可旋转且可加热的台架,由带铜盖的陶瓷加热器制成
  • 样品架尺寸:140 mm直径对于4"晶圆max
  • 转速:1 - 20 rpm可调,均匀涂层
  • 通过数字温度控制器,支架温度可在*高温度范围内调节至zui高500°C(max2小时),精度为+/- 1.0°C

气体流量控制

  • 安装了两个精密质量流量控制器(MFC),允许两种类型的气体进入  
  • 流量: 0 – 200 mL/min可在触摸屏控制面板上调节
  • 安装进气阀以进行真空释放

真空泵站

  • 包括移动泵站,溅射涂膜机可以放置在工位底部
  • 速度为80L/S的高速涡轮泵  与两级机械泵(220 L / min)相结合,可实现更大真空水平和更快的抽速。
  • 与腔室连接的标准真空度:<4.0E-5 Torr。(带腔室烘烤的1.0E-6托)。

水冷装置

包括一个数字温控循环冷水机组 

  • 制冷范围: 5~35 °C
  • 流速: 16 L/min
  • 泵压: 14 psi

整体尺寸

盖子关闭: 48" × 28" × 32"      

盖子打开: 48" × 28" × 37"

净重

160 kg

售后服务

货物发出后,CYKY提供一年免费售后服务,服务方式限于电话指导、视频指导、邮件指导、配件邮寄等远程技术支持。如需要派人现场服务,客户需要支付服务人员差旅费和出差期间的工资。

免责声明:本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等),仅供参考。可能由于更新不及时,会造成所述内容与实际情况存在一定的差异,请与本公司销售人员联系确认。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,本公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知。

豫公网安备 41019702002438号