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  • 产品名称:CY-in-line磁控溅射系统

  • 产品型号:CY-MS
  • 产品厂商:成越科仪
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简单介绍:
CY-in-line磁控溅射系统主要由进样室、溅射室、出样室、基片传递机构、抽气及真空测量系统、气路系统、电控系统、安装机台等部分组成。此外,CY-in-line磁控溅射系统升级后,可达到5室结构进样室、三个独立的溅射室、出样室;增加射频电源,提供制备介质膜的功能,并能实现连续镀膜。
详情介绍:

CY-in-line磁控溅射系统设备用途:

用于在晶体硅表面沉积金属薄膜(Al、Ag、Ni、Cu、Ti、Pd等),并能够实现反应溅射,可完成高、低真空下磁控溅射镀膜工艺,具备较大尺寸和多种尺寸规格的晶体硅光伏电池薄膜的连续制备能力。

CY-in-line磁控溅射系统技术参数:

型号

CY-in-line

主溅真空室

方形真空室,尺寸Ø 1000×700×350mm

进样室

圆筒型,卧室,尺寸Ø 250×420mm

真空系统配置

分子泵与机械泵,闸板阀

极限压力

主溅射室

≦8*10-5Pa(经烘烤除气后)

进样室

≦6.6*10-4Pa(经烘烤除气后)

恢复真空时间

主溅射室

40分钟可达到6.6*10-4Pa(系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气)

进样室

40分钟可达到6.6*10-3Pa(系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气)

磁控靶组件

矩形靶尺寸约450*45mm;靶与样品距离80mm可调

 

基片加热台

基片结构

尺寸125*125mm或156*156mm,可一次安装4片样品

加热温度

室温~400C±2  C,可控可调

气路系统

质量流量控制器3路

设备占地面积

主机

2655 * 930mm2

电控柜

700 *700mm2(两个)

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