产品名称：小型单靶磁控溅射镀膜仪

小型单靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有小型化、标准化的特点。磁控靶有1英寸、2英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选择；所配电源为150W直流电源，可用于金属溅射镀膜。镀膜仪配有通气接口，可以通入保护性气体，若客户需要通入混合气体，可以联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。仪器标配先进的涡轮分子泵组，极限真空可达1.0E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。

小型单靶磁控溅射镀膜仪适用范围：

该设备可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，经过小型化设计，高度集成，体积小巧，可以放置于桌面上使用，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。 

小型单靶磁控溅射镀膜仪技术参数：

小型单靶磁控溅射镀膜仪
样品台	尺寸	φ138mm	控温精度	±1℃
	加热温度	*高500℃	转速	1-20rpm可调
磁控溅射头	数量	2” x1 （1”,2”可选）	水冷机规格	10L/min流速的循环水冷机
	冷却方式	水冷
真空腔体	腔体尺寸	φ180mm × 215mm	观察窗口	全向透明
	腔体材料	高纯石英	开启方式	顶盖拆卸式
真空系统	产品型号	CY-GZK103-A	抽气接口	KF40
	分子泵	CY-600	排气接口	KF16
	前极泵	旋片泵	真空测量	复合真空计
	极限真空	1.0E-5Pa	供电电源	AC;220V 50/60Hz
	抽气速率	分子泵：600L/S  旋片泵：1.1L/S  综合抽气性能：20分钟真空度可达： 1.0E-3Pa
电源配置	数量	直流电源 ×1	*大输出功率	150W
其他	供电电压	AC220V,50Hz	整机尺寸	500mm × 350mm × 400mm
	整机功率	1.7KW（真空泵组1.5KW+本机0.2KW）	整机重量	30kg