产品详情
  • 产品名称:三靶磁控溅射镀膜仪(射频)

  • 产品型号:CY-MSP300S-3RF
  • 产品厂商:成越科仪
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简单介绍:
三靶磁控溅射镀膜仪(射频)我公司研发的实验室专用镀膜仪,典型的高速低温溅射。三靶磁控溅射镀膜仪(射频)可选配源功率从500W-1000W不等的射频电源。
详情介绍:

CY-MSP300S-3RF三靶磁控溅射镀膜仪(射频)为我公司研发的实验室专用镀膜仪,设备可选配直流电源,和射频电源,功率从500W-1000W不等,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。
磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点,镀膜速率高,样品温升低,是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层,水冷机能够有效的带走热量,避免热量在靶面聚集,使磁控镀膜能长时间稳定工作。

设备经过紧凑化设计,实现了体积与性能的平衡,造型美观功能齐全。整机均采用触控屏控制,内置一键式镀膜程序,操作简单易上手,是一款实验室制备薄膜的理想设备。


名称

三靶磁控溅射镀膜仪(射频)

型号
CY-MSP300S-3RF

特点
1.能量高速度快
2.磁控靶配有水冷夹层避免热量在靶面聚集
3.基片可加热至500℃
4.采用单靶独立、多靶轮流或组合共溅,向心溅射
5.用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系
6.PC+PLC全自动控制

技术参
1.  供电电压 AC220V,50Hz
2.  整机功率 6KW
3.  极限真空度 5x10-4Pa
4.  载样台参数 
     尺寸 φ150mm;加热温度 *高500℃;控温精度 ±1℃;转速 1-20rpm可调
5.  磁控溅射头参数 
     数量 3个2”磁控溅射头;冷却方式  10L/min流速的循环水冷机
6.  真空腔体 
     尺寸 φ300mm X 340mm H; 材料 不锈钢; 观察窗口 φ100mm;开启方式 上顶开式,便于更换靶材
7.  气体流量控制器 1路200sccm Ar; 
8.  真空泵 配有一套分子泵系统,抽速600L/S
9.  膜厚仪 石英振动薄膜测厚仪一台,分辨率0.10 Å
10. 溅射电源(3RF)
     射频电源,500W-1000W,适用于非金属镀膜
11. 操作方式 一体机电脑操作

规格
整机尺寸 1090mm X 900mm X 1250mm
整机重量 350kg




豫公网安备 41019702002438号