产品名称：三靶磁控溅射镀膜仪(射频)

CY-MSP300S-3RF三靶磁控溅射镀膜仪(射频)为我公司研发的实验室专用镀膜仪，设备可选配直流电源，和射频电源，功率从500W-1000W不等，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。
磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。

设备经过紧凑化设计，实现了体积与性能的平衡，造型美观功能齐全。整机均采用触控屏控制，内置一键式镀膜程序，操作简单易上手，是一款实验室制备薄膜的理想设备。

技术参数：

项目	明细
产品型号	CY-MSH300-III-RFRFRF-SS
供电电压	AC220V，50Hz
整机功率	4KW
系统真空	≦5×10-4Pa
样品台	尺寸	φ140mm
	控温精度	±1℃
	加热温度	*高500℃
	转速	1-20rpm可调
磁控溅射头	数量	2” x3 （1”,2”可选）
	水冷机规格	10L/min流速的循环水冷机
	冷却方式	水冷
真空腔体	腔体尺寸	Dia.300mm×300mm
	观察窗口	φ100mm
	开启方式	上顶开式
	腔体材料	不锈钢
质量流量计	2路；量程100sccm；100sccm（可根据客户需要定制多路气路）
真空系统	产品型号	CY-GZK103-A
	抽气接口	CF160
	分子泵	CY-600
	排气接口	KF40
	前极泵	旋片泵
	真空测量	复合真空计
	极限真空	1.0E-5Pa
	供电电源	AC;220V 50/60Hz
	抽气速率	分子泵：600L/S  旋片泵：1.1L/S  综合抽气性能：20分钟真空度可达： 1.0E-3Pa
电源配置	数量	射频电源 x3
	*大输出功率	射频电源500W
膜厚测量	可选配石英晶体膜厚仪，分辨率0.10 Å
控制系统	CYKY自研专业级控制系统
整机尺寸	600mm X 650mm X 1280mm
整机重量	300kg