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  • 产品名称：双靶磁控溅射镀膜仪

  • 产品型号：
  • 产品厂商：成越科仪
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简单介绍：
双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。 磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。 与同类设备相比，这款双靶磁控溅射镀膜仪不仅应用广泛，且体积小便于操作，是一款实验室制备薄膜的理想设备。
详情介绍：

技术参数：

项目

明细

供电电压

AC220V，50Hz

整机功率

3KW

极限真空度

10-6torr

载样台参数

 

 

 

尺寸

φ140mm

加热温度

*高500℃

控温精度

±1℃

转速

1-20rpm可调

磁控溅射头参数

 

 

数量

2个2”磁控溅射头

冷却方式

水冷，所需流速10L/min

水冷机规格

16L/min流速的循环水冷机

真空腔体

 

 

 

腔体尺寸

φ300mm X 300mm H

腔体材料

不锈钢

观察窗口

φ100mm

开启方式

上顶开式，便于更换靶材

气体流量控制器

4路分别通N2，Ar，O2，空气；量程均为0-500sccm

真空泵

配有一套分子泵系统，抽速600L/S

膜厚仪

石英振动薄膜测厚仪一台，分辨率0.10 Å

溅射电源

直流电源一台，500W，适用于制备金属膜

射频电源一台，300W，适用于非金属镀膜

操作方式

面板按钮操作

整机尺寸

1400mm X 750mm X 1300mm

整机重量

300kg

豫公网安备 41019702002438号