- 磁控溅射镀膜仪
- 热蒸发镀膜仪
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- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 其他产品
桌面型单靶磁控镀膜仪适用范围:
该设备可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,经过小型化设计,高度集成,体积小巧,可以放置于桌面上使用,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。
单靶磁控溅射镀膜仪技术参数:
往复样品台
尺寸
50*100mm
往复速度
0~50mm/s
磁控靶枪
靶材平面
圆形平面靶
溅射真空
10Pa~0.2Pa
靶材直径
2 英寸
靶材厚度
建议2~5mm
靶头温度
≦65℃
真空腔体
腔体尺寸
约为Φ180mm × H 215mm
腔体材料
高纯石英
观察窗口
全向透明
开启方式
顶盖拆卸式
电源
直流电源功率
*大150W
数量
1
分子泵系统
前级泵
旋片泵
VRD-4
抽速
1.1L/S
极限真空
5*10-1Pa
分子泵
分子泵抽速
600L/S
额定转速
24000rpm
极限真空
5*10-5Pa
振动值
≦0.1um
启动时间
≦4.5min
停机时间
<7min
冷却方式
水冷+风冷
水冷机
冷却水温度
≦37℃
冷却水流速
10L/min
供电电压
AC220V 50Hz