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  • 产品名称：​双靶DCRF磁控溅射镀膜仪（往复样品台）

  • 产品型号：CY-MSH500S-100F-II-DCRF-SS
  • 产品厂商：成越科仪
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简单介绍：
​双靶DCRF磁控溅射镀膜仪（往复样品台）配有一台直流电源，一台射频电源，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等往复式设计，​双靶DCRF磁控溅射镀膜仪（往复样品台）的样品台采用往复式设计，左侧配有磁力耦合推杆，可将样品台左右推动。
详情介绍：
CY-MSH500S-100F-II-DCRF-SS往复样品台型双靶磁控溅射镀膜仪(直流+射频)双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的实验室专用镀膜仪，设备配有一台直流电源，一台射频电源，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。
磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。本型号样品台采用往复式设计，左侧配有磁力耦合推杆，可将样品台左右推动。整机均采用触控屏控制，内置一键式镀膜程序，操作简单易上手，是实验室制备薄膜的理想设备

技术参数：

项目

明细

产品型号

CY-MSH500S-100F-II-DCRF-SS

供电电压

AC220V，50Hz

整机功率

4KW

极限真空度

5x10-4Pa

载样台参数

尺寸

100mm x 100mm

往复行程

200mm

磁控溅射头参数

数量

2个2”磁控溅射头

冷却方式

水冷，所需流速10L/min

水冷机规格

10L/min流速的循环水冷机

真空腔体

腔体尺寸

φ500mm X 490mm H

腔体材料

不锈钢

观察窗口

φ100mm

开启方式

前开门式

气体流量控制器

1路质量流量计用于控制Ar流量，量程为:200SCCM  Ar  

真空泵

配有一套分子泵系统，抽速600L/S

膜厚仪

石英振动薄膜测厚仪一台，分辨率0.10 Å

溅射电源

直流电源1台，500W，适用于制备金属膜

射频电源1台，500W，适用于非金属镀膜

操作方式

CYKY自研专业级控制系统

整机尺寸

1090mm X 900mm X 1250mm

整机重量

350kg




豫公网安备 41019702002438号