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  • 产品名称：双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)

  • 产品型号：CY-MSH500X-II-DCRF-SS
  • 产品厂商：成越科仪
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简单介绍：
双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)采用靶下置样品台在上方的布局。双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)两个靶位，直流射频双电源，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜。
详情介绍：
CY-MSP500S-DCRF-B双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)为我公司研发的配有两个靶位的实验室专用镀膜仪，设备配有一台直流电源，一台射频电源，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。
磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。本型号采用靶下置布局，样品台在上方，与靶面高度可通过程序**可调，并且可旋转加热，性能优异。

技术参数：

项目

明细

产品型号

CY-MSH500X-II-DCRF-SS

供电电压

AC220V，50Hz

整机功率

6KW

极限真空度

5x10-4Pa

载样台参数

尺寸

150mm

高度

上下70mm**可调

加热温度

≤500℃

转速

1-20rpm

磁控溅射头参数

数量

2个2”磁控溅射头

冷却方式

水冷，所需流速10L/min

水冷机规格

10L/min流速的循环水冷机

真空腔体

腔体尺寸

φ500mm X 490mm H

腔体材料

不锈钢

观察窗口

φ100mm

开启方式

前开门式

气体流量控制器

1路质量流量计用于控制Ar流量，量程为:200SCCM  Ar；

真空泵

配有一套分子泵系统，抽速600L/S

膜厚仪

石英振动薄膜测厚仪一台，分辨率0.10 Å

溅射电源

直流电源1台，500W，适用于制备金属膜

射频电源1台，500W，适用于非金属镀膜

操作方式

CYKY自研专业级控制系统

整机尺寸

1090mm X 900mm X 1250mm

整机重量

350kg



豫公网安备 41019702002438号