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本设备为桌面型单靶磁控镀膜仪。设备经过小型化设计，将设备外形限制在了桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电源，能够用于溅射金属材料，具有速度快温升低等特点。
单靶磁控镀膜仪技术参数：
桌面型单靶磁控镀膜仪
样品台
尺寸
φ100mm
加热
*高500℃
转速
0-20可调
磁控溅射靶
数量
2” x1
真空腔体
腔体尺寸
φ180mm X 215mm
观察窗口
全向透明
腔体材料
高纯石英
开启方式
上盖拆卸式
真空系统
机械泵
旋片泵
分子泵
涡轮分子泵
真空测量
电阻规+电离规
抽气接口
KF16
抽气接口
KF40
排气接口
KF16
极限真空
1.0E-4Pa
供电电源
AC 220V 50/60Hz
抽气速率
机械泵1.1L/s 分子泵600L/s
电源配置
数量
直流电源 x1
*大输出功率
直流电源150W
其他
供电电压
AC220V,50Hz
整机功率
2kW
整机尺寸
550mm X 350mm
X400mm
